Cuando se trata de aplicar revestimientos de carbono tipo diamante (DLC), la temperatura desempeña un papel crucial.
Los recubrimientos DLC suelen aplicarse a temperaturas inferiores a 200°C.
La tecnología de deposición específica de HEF permite aplicar recubrimientos DLC a unos 170°C.
Las películas de DLC pueden depositarse mediante el método de deposición química en fase vapor asistida por plasma de radiofrecuencia (RF PECVD).
Este método permite depositar películas de carbono con una amplia gama de propiedades ópticas y eléctricas.
Las películas se adhieren bien a muchos sustratos y pueden depositarse a temperaturas relativamente bajas.
Sin embargo, las películas de carbono con alto contenido en sp3, conocidas como diamante policristalino, suelen producirse mediante procesos de deposición química en fase vapor (CVD) a alta temperatura.
Las películas de carbono tipo diamante (DLC), en sus distintas formas, pueden depositarse a temperaturas aún más bajas, en torno a los 300 °C, con una gran fuerza adhesiva mediante capas de unión adecuadas.
La deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD) también puede utilizarse para producir revestimientos de DLC.
Estos revestimientos son duros, resistentes a los arañazos y tienen buenas propiedades de barrera.
El PECVD ofrece ventajas como temperaturas más bajas, estabilidad química, menos subproductos tóxicos, tiempo de procesamiento rápido y altas velocidades de deposición.
En general, los recubrimientos de DLC pueden depositarse a distintas temperaturas en función del método de deposición específico y de las propiedades deseadas.
¿A qué temperatura se aplica el DLC? 5 puntos clave que debe conocer
1. Temperatura típica de deposición
Los recubrimientos de DLC se aplican normalmente a temperaturas inferiores a 200°C.
2. Tecnología de deposición específica de HEF
La tecnología de HEF permite aplicar revestimientos de DLC a unos 170°C.
3. Método RF PECVD
Las películas de DLC pueden depositarse mediante el método de deposición química en fase vapor asistida por plasma de radiofrecuencia (RF PECVD).
4. Deposición a baja temperatura
Las películas tienen buena adherencia a muchos sustratos y pueden depositarse a temperaturas relativamente bajas.
5. Ventajas del PECVD
La deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD) ofrece ventajas como temperaturas más bajas, estabilidad química, menos subproductos tóxicos, tiempo de procesamiento rápido y altas velocidades de deposición.
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