Una temperatura de deposición típica para recubrimientos DLC es inferior a 200°C. En concreto, la tecnología de deposición específica de HEF permite depositar revestimientos de DLC a unos 170°C. Las películas de DLC pueden depositarse mediante el método de deposición química en fase vapor asistida por plasma de radiofrecuencia (RF PECVD), que permite depositar películas de carbono con una amplia gama de propiedades ópticas y eléctricas. Las películas se adhieren bien a muchos sustratos y pueden depositarse a temperaturas relativamente bajas. Sin embargo, las películas de carbono sp3 de alta contención, conocidas como diamante policristalino, suelen producirse mediante procesos de deposición química en fase vapor (CVD) a alta temperatura. Las películas de carbono tipo diamante (DLC), en sus distintas formas, pueden depositarse a temperaturas aún más bajas, en torno a los 300 °C, con una gran fuerza adhesiva mediante capas de unión adecuadas. La deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD) también puede utilizarse para producir revestimientos de DLC, que son duros, resistentes a los arañazos y tienen buenas propiedades de barrera. El PECVD ofrece ventajas como temperaturas más bajas, estabilidad química, menos subproductos tóxicos, tiempo de procesamiento rápido y altas velocidades de deposición. En general, los recubrimientos de DLC pueden depositarse a distintas temperaturas en función del método de deposición específico y de las propiedades deseadas.
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