La frecuencia utilizada habitualmente para la deposición por pulverización catódica de RF es de 13,56 MHz.
Esta frecuencia se elige por varias razones.
4 razones principales por las que 13,56 MHz es la frecuencia estándar para la deposición catódica por RF
1. Cumplimiento de la normativa
La Unión Internacional de Telecomunicaciones (UIT) ha designado 13,56 MHz como frecuencia para instrumentos industriales, científicos y médicos (ISM).
Esta asignación evita interferencias con los servicios de telecomunicaciones.
Garantiza que los equipos de sputtering de RF funcionen dentro de una banda de frecuencias reservada específicamente para aplicaciones no relacionadas con las comunicaciones.
2. Eficacia en la interacción ión-objetivo
La frecuencia de 13,56 MHz es lo suficientemente baja como para permitir un tiempo suficiente para la transferencia de momento de los iones de argón al material objetivo durante el sputtering.
A esta frecuencia, los iones tienen tiempo suficiente para alcanzar el blanco e interactuar con él antes de que comience el siguiente ciclo del campo de RF.
Esta interacción es crucial para el sputtering efectivo del material objetivo.
3. Evitar la acumulación de carga
En el sputtering por RF, el potencial eléctrico alterno ayuda a evitar la acumulación de carga en el blanco, especialmente cuando se trata de materiales aislantes.
Durante el ciclo positivo de la RF, los electrones son atraídos hacia el blanco, dándole una polarización negativa.
Durante el ciclo negativo, continúa el bombardeo de iones, lo que garantiza que el blanco permanezca eléctricamente neutro y evita efectos adversos como la formación de gotas.
4. Norma ampliamente aceptada
Dada su eficacia y el cumplimiento de la normativa internacional, 13,56 MHz se ha convertido en la frecuencia estándar para el sputtering por RF.
Esta estandarización simplifica el diseño y el funcionamiento de los equipos de sputtering.
También garantiza la compatibilidad de los distintos sistemas y componentes.
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