El equipo MOCVD es una herramienta especializada utilizada para la deposición de materiales monocristalinos finos.
Se utiliza principalmente en la fabricación de semiconductores compuestos.
El proceso funciona mediante epitaxia en fase de vapor utilizando compuestos metalorgánicos e hidruros como materiales de partida.
¿Qué es el equipo MOCVD? 4 puntos clave que hay que entender
1. Materiales básicos y proceso
El MOCVD utiliza compuestos orgánicos de elementos de los grupos III y II.
También utiliza hidruros de elementos de los grupos V y VI.
Estos materiales se introducen en la cámara de reacción, donde sufren una descomposición térmica.
La descomposición da lugar a la deposición de varios semiconductores compuestos Ⅲ-V y Ⅱ-VI y sus soluciones sólidas multicapa como materiales monocristalinos delgados sobre el sustrato.
2. Metodología y funcionalidad
El proceso MOCVD implica el uso de compuestos metal-orgánicos como precursores.
Estos precursores se introducen en la cámara de reacción.
Se descomponen térmicamente o se activan por otros medios como el plasma o la luz.
El centro metálico reacciona con otras moléculas precursoras o con el sustrato para formar el material deseado.
Los ligandos orgánicos se liberan como subproductos.
Este método permite controlar con precisión la composición y los niveles de dopaje de las películas depositadas.
Es especialmente útil para aplicaciones que requieren una gran precisión y calidad.
3. Aplicación y control
El MOCVD se utiliza ampliamente en la producción de dispositivos como los LED de alto brillo (HBLED) y otros dispositivos semiconductores compuestos.
El proceso se controla mediante instrumentos avanzados que supervisan y ajustan parámetros como la temperatura del soporte/ranura de la oblea, el espesor de la película, la tensión de la película/curvatura de la oblea y las mediciones de superficie.
Esta retroalimentación en tiempo real garantiza un alto rendimiento y reproducibilidad, fundamentales para las aplicaciones industriales.
4. Características técnicas
A diferencia de otras técnicas de CVD, la MOCVD introduce los reactivos a través de un burbujeador.
El burbujeador hace pasar el gas portador a través de un líquido metalorgánico calentado.
Este método garantiza que la concentración de la fuente de MO sea controlada y reproducible.
Mejora la eficacia y la fiabilidad del proceso de deposición.
Siga explorando, consulte a nuestros expertos
Descubra la tecnología de vanguardia que hay detrás de los equipos MOCVD y lleve su fabricación de semiconductores a nuevas cotas.
KINTEK SOLUTION ofrece sistemas MOCVD diseñados con precisión que le permiten depositar semiconductores compuestos de alta calidad con una eficiencia sin precedentes.
Únase a los líderes en fabricación avanzada de semiconductores y explore hoy mismo nuestra completa gama de equipos MOCVD.
Póngase en contacto con nosotros para una consulta gratuita y eleve sus procesos de semiconductores a una precisión y un rendimiento inigualables.
