El recubrimiento por pulverización catódica es un proceso versátil de deposición física de vapor que puede utilizarse para recubrir una amplia gama de materiales, como metales, aleaciones, aislantes, cerámicas y sus compuestos. El proceso consiste en expulsar material de una superficie objetivo y depositarlo sobre un sustrato para formar una película fina y funcional.
Materiales que pueden recubrirse por pulverización catódica:
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Metales y aleaciones: Metales comunes como la plata, el oro, el cobre y el acero pueden someterse a un proceso de sputtering. Las aleaciones también pueden someterse a pulverización catódica y, en las condiciones adecuadas, un blanco multicomponente puede convertirse en una película con la misma composición.
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Óxidos: Algunos ejemplos son el óxido de aluminio, el óxido de itrio, el óxido de titanio y el óxido de indio y estaño (ITO). Estos materiales suelen utilizarse por sus propiedades eléctricas, ópticas o químicas.
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Nitruros: El nitruro de tantalio es un ejemplo de nitruro que se puede pulverizar. Los nitruros se valoran por su dureza y resistencia al desgaste.
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Boruros, carburos y otras cerámicas: Aunque no se menciona específicamente en la referencia, la declaración general sobre la capacidad de pulverización catódica sugiere que estos materiales también pueden pulverizarse catódicamente.
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Elementos y compuestos de tierras raras: El gadolinio se menciona como ejemplo de elemento de tierras raras que puede someterse a sputtering, a menudo utilizado para radiografía neutrónica.
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Pilas dieléctricas: El sputtering puede utilizarse para crear pilas dieléctricas combinando múltiples materiales para aislar eléctricamente componentes, como herramientas quirúrgicas.
Características y técnicas del proceso:
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Compatibilidad de materiales: El sputtering puede utilizarse con metales, aleaciones y aislantes. También puede tratar blancos multicomponente, lo que permite la creación de películas con composiciones precisas.
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Pulverización catódica reactiva: Al añadir oxígeno u otro gas activo a la atmósfera de descarga, se puede producir una mezcla o compuesto de la sustancia objetivo y la molécula de gas. Esto es útil para crear óxidos y nitruros.
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Control de precisión: La corriente de entrada del blanco y el tiempo de sputtering pueden controlarse, lo que es crucial para obtener espesores de película de alta precisión.
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Uniformidad: El revestimiento por pulverización catódica es ventajoso para producir grandes áreas de película uniforme, lo que no siempre es posible con otros procesos de deposición.
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Técnicas: El bombardeo por magnetrón de corriente continua se utiliza para materiales conductores, mientras que el bombardeo por radiofrecuencia se emplea para materiales aislantes como los óxidos, aunque a menor velocidad. Otras técnicas son el bombardeo por haz de iones, el bombardeo reactivo y el bombardeo por magnetrón de impulsos de alta potencia (HiPIMS).
En resumen, el recubrimiento por pulverización catódica es un proceso muy adaptable que puede utilizarse para depositar diversos materiales, desde metales sencillos hasta compuestos cerámicos complejos, con un control preciso de la composición y el grosor de la película. Esta versatilidad lo convierte en una valiosa herramienta en muchos sectores, como el de los semiconductores, el aeroespacial, el energético y el de defensa.
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