La pulverización catódica es un proceso que se basa en la transferencia de impulso de iones energéticos a átomos en un material objetivo sólido.
Esta transferencia provoca la expulsión de estos átomos a la fase gaseosa.
El proceso es esencial para la deposición de películas finas y diversas técnicas analíticas.
¿En qué transferencia se basa el sputtering? Explicación de 5 puntos clave
1. Bombardeo iónico
En el proceso de sputtering, los iones de un gas inerte, normalmente argón, son acelerados por un campo eléctrico hacia un material objetivo.
Estos iones están cargados positivamente y son atraídos por el objetivo cargado negativamente a altas velocidades.
2. Transferencia de momento
Tras el impacto, los iones energéticos transfieren su momento a los átomos del material objetivo.
Esta transferencia es parcialmente inelástica, lo que significa que parte de la energía cinética de los iones se convierte en energía vibratoria dentro del material objetivo.
3. Expulsión de los átomos del blanco
El impulso transferido es suficiente para superar la energía de enlace entre los átomos del blanco.
Esto hace que sean expulsados de la red del material al estado gaseoso dentro de la cámara de recubrimiento.
Esta expulsión de átomos se conoce como sputtering.
4. Deposición sobre sustratos
Los átomos o partículas pulverizados se desplazan por el espacio de vacío y se depositan sobre un sustrato, formando una película fina.
Esta deposición puede producirse por línea de visión o las partículas pueden ser ionizadas de nuevo y aceleradas por fuerzas eléctricas hasta el sustrato.
5. Versatilidad en la aplicación
Dado que el sputtering no requiere la fusión del material fuente, puede aplicarse a diversas orientaciones y formas complejas.
Esto lo convierte en un método versátil para el recubrimiento de diferentes tipos de superficies.
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