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Blanco de pulverización catódica de silicio (Si) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Materiales de laboratorio

Blanco de pulverización catódica de silicio (Si) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Número de artículo : LM-SI

El precio varía según Especificaciones y personalizaciones


Fórmula química
Y
Pureza
5N-6N
Forma
discos / alambre / bloque / polvo / placas / objetivos de columna / objetivo de paso / hecho a medida
ISO & CE icon

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Nos complace ofrecer materiales de silicio (Si) para uso en laboratorio a precios competitivos. Nuestra especialidad radica en producir y personalizar materiales de silicio (Si) con varias purezas, formas y tamaños para satisfacer sus necesidades específicas.

Ofrecemos una diversa selección de especificaciones y tamaños para objetivos de pulverización catódica (circular, cuadrada, tubular, irregular), materiales de revestimiento, cilindros, conos, partículas, láminas, polvos, polvos para impresión 3D, polvos nanométricos, alambrón, lingotes y bloques. entre otros.

Detalles

Objetivo de pulverización catódica de silicio (Si)
Objetivo de pulverización catódica de silicio (Si)

oblea monocristalina
oblea monocristalina
oblea monocristalina
oblea monocristalina
Bloque de polisilicio
Bloque de polisilicio
Bloque de polisilicio
Bloque de polisilicio
Partículas de polisilicio
Partículas de polisilicio
Partículas de polisilicio
Partículas de polisilicio

Acerca de Silicio (Si)

La sílice, en forma de arena, es un componente fundamental del vidrio, que cuenta con excelentes propiedades mecánicas, ópticas, térmicas y eléctricas.

En la industria electrónica, el silicio de ultra alta pureza dopado con boro, galio, fósforo o arsénico se usa ampliamente para producir transistores, células solares, rectificadores y otros dispositivos de estado sólido.

Las siliconas, una amplia gama de polímeros sintéticos, son importantes productos de silicio con diversas formas, que van desde líquidos hasta sólidos duros similares al vidrio con muchas propiedades beneficiosas.

El silicio metálico está disponible en varias purezas, que van del 99 % al 99,999 % (grado ACS a ultra alta pureza) en formas tales como gránulos, varillas, alambres y gránulos para materiales de fuente de evaporación.

El óxido de silicio, en forma de polvo y gránulos densos, está disponible para aplicaciones tales como recubrimiento óptico y aplicaciones de película delgada. El fluoruro de silicio, que es insoluble y libre de óxido, es ideal para la metalurgia, la deposición física y química de vapor y ciertos recubrimientos ópticos.

Las formas solubles de silicio, como cloruros y acetatos, se pueden sintetizar como soluciones en estequiometrías específicas.

Control de calidad de ingredientes

Análisis de composición de materias primas
Mediante el uso de equipos como ICP y GDMS, el contenido de impurezas metálicas se detecta y analiza para garantizar que cumpla con el estándar de pureza;

Las impurezas no metálicas son detectadas por equipos tales como analizadores de carbono y azufre, analizadores de nitrógeno y oxígeno.
Análisis de detección de fallas metalográficas.
El material de destino se inspecciona utilizando un equipo de detección de fallas para garantizar que no haya defectos ni agujeros de contracción dentro del producto;

A través de pruebas metalográficas, se analiza la estructura interna del grano del material objetivo para garantizar que los granos sean finos y densos.
Inspección de apariencia y dimensión.
Las dimensiones del producto se miden con micrómetros y calibradores de precisión para garantizar el cumplimiento de los dibujos;

El acabado superficial y la limpieza del producto se miden con un medidor de limpieza superficial.

Tamaños de objetivos de pulverización convencional

Proceso de preparación
Prensado isostático en caliente, fusión al vacío, etc.
Forma del objetivo de pulverización catódica
objetivo de pulverización catódica plano, objetivo de pulverización catódica multiarco, objetivo de pulverización catódica escalonada, objetivo de pulverización catódica de forma especial
Tamaño del objetivo de pulverización catódica redonda
Diámetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espesor: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
El tamaño se puede personalizar.
Tamaño del objetivo de pulverización catódica cuadrada
50 × 50 × 3 mm / 100 × 100 × 4 mm / 300 × 300 × 5 mm, el tamaño se puede personalizar

Formas de metal disponibles

Detalles de formas de metal

Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.

  • Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
  • Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
  • Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
  • Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
  • Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
  • Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
  • Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes

KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.

embalaje

Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.

FAQ

¿Qué son los materiales de alta pureza?

Los materiales de alta pureza se refieren a sustancias que están libres de impurezas y poseen un alto nivel de homogeneidad química. Estos materiales son esenciales en varias industrias, particularmente en el campo de la electrónica avanzada, donde las impurezas pueden afectar significativamente el rendimiento de los dispositivos. Los materiales de alta pureza se obtienen a través de varios métodos, incluida la purificación química, la deposición en fase de vapor y el refinado por zonas. En la preparación de diamantes monocristalinos de grado electrónico, por ejemplo, se necesita una materia prima gaseosa de alta pureza y un sistema de vacío eficiente para lograr el nivel deseado de pureza y homogeneidad.

¿Qué son los metales de alta pureza?

Los metales de alta pureza son materiales de un solo elemento con un mínimo de impurezas, lo que los hace ideales para su uso en investigación, desarrollo y producción de tecnologías avanzadas. Estos metales se utilizan en la creación de cerámicas avanzadas, sensores electrónicos, lentes y ópticas de alta precisión, LED, láseres, recubrimientos de barrera térmica, pantallas de plasma y más. KINTEK ofrece una amplia gama de metales de alta pureza y compuestos metálicos binarios y ternarios en diversas formas, composiciones, dispersiones, tamaños de partículas y pesos para aplicaciones comerciales y de investigación. Los metales especiales estratégicos se utilizan en aplicaciones de alta tecnología y pueden ser costosos debido a su elaborado procesamiento.

¿Qué es RF PECVD?

RF PECVD significa deposición de vapor químico mejorada con plasma de radiofrecuencia, que es una técnica utilizada para preparar películas policristalinas en un sustrato mediante el uso de plasma de descarga luminiscente para influir en el proceso mientras se lleva a cabo la deposición de vapor químico a baja presión. El método RF PECVD está bien establecido para la tecnología estándar de circuitos integrados de silicio, en la que normalmente se utilizan obleas planas como sustratos. Este método es ventajoso debido a la posibilidad de fabricación de película de bajo costo y alta eficiencia de deposición. Los materiales también se pueden depositar como películas de índice de refracción gradual o como una pila de nanopelículas, cada una con diferentes propiedades.

¿Qué es el objetivo de pulverización catódica?

Un objetivo de pulverización catódica es un material utilizado en el proceso de deposición por pulverización catódica, que consiste en romper el material objetivo en partículas diminutas que forman un rocío y recubren un sustrato, como una oblea de silicio. Los objetivos de pulverización catódica suelen ser elementos metálicos o aleaciones, aunque hay algunos objetivos cerámicos disponibles. Vienen en una variedad de tamaños y formas, y algunos fabricantes crean objetivos segmentados para equipos de pulverización catódica más grandes. Los objetivos de pulverización tienen una amplia gama de aplicaciones en campos como la microelectrónica, las células solares de película delgada, la optoelectrónica y los revestimientos decorativos debido a su capacidad para depositar películas delgadas con alta precisión y uniformidad.

¿Para qué se utilizan los metales de alta pureza?

Los metales de alta pureza se utilizan en diversas tecnologías avanzadas que requieren propiedades, rendimiento y calidad específicos. Se utilizan para crear iluminación fluorescente, pantallas de plasma, LED, lentes y ópticas de alta precisión, sensores electrónicos, cerámica avanzada, recubrimientos de barrera térmica, láser y más. Estos metales también se utilizan en la producción de materiales magnéticos, termoeléctricos, de fósforo y semiconductores de alta calidad. KINTEK ofrece una cartera diversa de metales de alta pureza, compuestos metálicos binarios y ternarios, aleaciones magnéticas, óxidos metálicos, nanomateriales y precursores organometálicos en diversas formas, composiciones, dispersiones, tamaños de partículas y pesos para todas las aplicaciones comerciales y de investigación.

¿Cómo se fabrican los blancos de pulverización catódica?

Los objetivos de pulverización catódica se fabrican utilizando una variedad de procesos de fabricación según las propiedades del material objetivo y su aplicación. Estos incluyen fusión y laminado al vacío, prensado en caliente, proceso especial de sinterización a presión, prensado en caliente al vacío y métodos forjados. La mayoría de los materiales de destino de pulverización catódica se pueden fabricar en una amplia gama de formas y tamaños, siendo las formas circulares o rectangulares las más comunes. Los objetivos generalmente están hechos de elementos metálicos o aleaciones, pero también se pueden usar objetivos de cerámica. También hay disponibles objetivos de pulverización catódica compuestos, hechos de una variedad de compuestos que incluyen óxidos, nitruros, boruros, sulfuros, seleniuros, telururos, carburos, mezclas cristalinas y compuestas.

¿Para qué se utiliza el objetivo de pulverización catódica?

Los objetivos de pulverización catódica se utilizan en un proceso llamado pulverización catódica para depositar películas delgadas de un material sobre un sustrato utilizando iones para bombardear el objetivo. Estos objetivos tienen una amplia gama de aplicaciones en varios campos, incluida la microelectrónica, las células solares de película delgada, la optoelectrónica y los revestimientos decorativos. Permiten la deposición de películas delgadas de materiales sobre una variedad de sustratos con alta precisión y uniformidad, lo que los convierte en una herramienta ideal para producir productos de precisión. Los objetivos de bombardeo iónico vienen en varias formas y tamaños y pueden especializarse para cumplir con los requisitos específicos de la aplicación.

¿Qué son los objetivos de pulverización catódica para la electrónica?

Los objetivos de pulverización para la electrónica son discos delgados o láminas de materiales como aluminio, cobre y titanio que se utilizan para depositar películas delgadas en obleas de silicio para crear dispositivos electrónicos como transistores, diodos y circuitos integrados. Estos objetivos se utilizan en un proceso denominado pulverización catódica, en el que los átomos del material objetivo se expulsan físicamente de la superficie y se depositan en un sustrato bombardeando el objetivo con iones. Los objetivos de pulverización catódica para la electrónica son esenciales en la producción de microelectrónica y, por lo general, requieren alta precisión y uniformidad para garantizar dispositivos de calidad.

¿Cuál es la vida útil de un objetivo de pulverización catódica?

La vida útil de un objetivo de pulverización catódica depende de factores como la composición del material, la pureza y la aplicación específica para la que se utiliza. En general, los objetivos pueden durar de varios cientos a miles de horas de pulverización catódica, pero esto puede variar ampliamente según las condiciones específicas de cada ejecución. La manipulación y el mantenimiento adecuados también pueden prolongar la vida útil de un objetivo. Además, el uso de objetivos de pulverización catódica rotativa puede aumentar los tiempos de ejecución y reducir la aparición de defectos, lo que los convierte en una opción más rentable para procesos de gran volumen.
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