Conocimiento ¿Cómo se pule el recubrimiento PVD?
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 1 semana

¿Cómo se pule el recubrimiento PVD?

El pulido del revestimiento PVD consiste en mantener la textura original de la superficie del sustrato antes del proceso de revestimiento. He aquí una explicación detallada:

Resumen:

El recubrimiento PVD pulido se consigue asegurando que el sustrato tenga una superficie pulida o similar a un espejo antes del proceso de recubrimiento PVD. El recubrimiento PVD seguirá de cerca la topología de la superficie, replicando el acabado original.

  1. Explicación detallada:

    • Preparación del sustrato:
    • Antes de aplicar el revestimiento PVD, el sustrato debe limpiarse a fondo para eliminar cualquier contaminante que pueda afectar a la adherencia del revestimiento. Este proceso de limpieza suele incluir la limpieza por ultrasonidos, el aclarado y el secado.
  2. Si el sustrato no tiene una superficie pulida, debe pulirse antes del proceso de revestimiento PVD. Esto se debe a que los revestimientos PVD no alteran la rugosidad de la superficie; simplemente la reproducen.

    • Aplicación del revestimiento PVD:
    • Los revestimientos PVD se aplican en un entorno de alto vacío en el que el metal se vaporiza y se combina con un gas de reacción. Este proceso da lugar a un revestimiento de película fina que se adhiere bien al sustrato.
  3. El proceso de revestimiento PVD en sí no implica ningún paso adicional de pulido. En su lugar, se basa en el acabado de la superficie del sustrato para determinar el aspecto final del revestimiento.

    • Mantenimiento posterior al revestimiento:
  4. Para mantener el aspecto pulido de los revestimientos PVD, es importante utilizar métodos de limpieza adecuados. Los productos recubiertos con PVD deben limpiarse con paños suaves, agua y jabón neutro. Deben evitarse los productos químicos agresivos o los materiales abrasivos, ya que pueden dañar el revestimiento.

    • Consideraciones sobre las imperfecciones de la superficie:
  5. Si el sustrato presenta imperfecciones superficiales, éstas permanecerán visibles tras la aplicación del revestimiento PVD. Para enmascarar dichas imperfecciones, puede utilizarse un recubrimiento de polímero en polvo como pretratamiento para proporcionar una superficie más lisa antes de aplicar el recubrimiento PVD.

    • Ventajas del revestimiento PVD:

Los recubrimientos PVD ofrecen muy buena adherencia al sustrato, mantienen la precisión dimensional y no afectan a la microestructura cuando se seleccionan los materiales adecuados. También pueden combinarse con capas reductoras de la fricción y pueden adaptarse para tener estructuras de capas variables, lo que mejora su funcionalidad y atractivo estético.

Siguiendo estos pasos y consideraciones, el aspecto pulido de los revestimientos PVD puede mantenerse y mejorarse eficazmente, garantizando un acabado de alta calidad en las superficies revestidas.

Productos relacionados

Material de pulido de electrodos

Material de pulido de electrodos

¿Está buscando una manera de pulir sus electrodos para experimentos electroquímicos? ¡Nuestros materiales de pulido están aquí para ayudar! Siga nuestras sencillas instrucciones para obtener los mejores resultados.

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

La matriz de embutición de revestimiento compuesto de nanodiamante utiliza carburo cementado (WC-Co) como sustrato, y emplea el método de fase de vapor químico (método CVD para abreviar) para recubrir el diamante convencional y el revestimiento compuesto de nanodiamante en la superficie del orificio interior del molde.

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD: conductividad térmica, calidad del cristal y adherencia superiores para herramientas de corte, fricción y aplicaciones acústicas

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.

Diamante CVD para revestir herramientas

Diamante CVD para revestir herramientas

Experimente el rendimiento inmejorable de las piezas en bruto de diamante CVD: alta conductividad térmica, resistencia al desgaste excepcional e independencia de orientación.

Horno de deposición química mejorada con plasma rotativo inclinado (PECVD)

Horno de deposición química mejorada con plasma rotativo inclinado (PECVD)

Presentamos nuestro horno PECVD giratorio inclinado para la deposición precisa de películas delgadas. Disfrute de una fuente de coincidencia automática, control de temperatura programable PID y control de caudalímetro másico MFC de alta precisión. Características de seguridad integradas para su tranquilidad.

Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio

Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio

Conozca la máquina MPCVD de resonador cilíndrico, el método de deposición química en fase vapor por plasma de microondas utilizado para el crecimiento de gemas y películas de diamante en las industrias de joyería y semiconductores. Descubra sus ventajas económicas frente a los métodos HPHT tradicionales.

Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

Obtenga películas de diamante de alta calidad con nuestra máquina Bell-jar Resonator MPCVD diseñada para laboratorio y crecimiento de diamantes. Descubra cómo funciona la deposición de vapor químico de plasma de microondas para el cultivo de diamantes utilizando gas de carbono y plasma.

Máquina de diamante MPCVD de 915 MHz

Máquina de diamante MPCVD de 915 MHz

915MHz MPCVD máquina de diamante y su crecimiento efectivo de múltiples cristales, el área máxima puede llegar a 8 pulgadas, el área máxima de crecimiento efectivo de un solo cristal puede llegar a 5 pulgadas. Este equipo se utiliza principalmente para la producción de películas de diamante policristalino de gran tamaño, el crecimiento de diamantes largos de un solo cristal, el crecimiento a baja temperatura de grafeno de alta calidad, y otros materiales que requieren energía proporcionada por plasma de microondas para el crecimiento.

Horno de fusión por inducción en vacío Horno de fusión de arco

Horno de fusión por inducción en vacío Horno de fusión de arco

Obtenga una composición precisa de las aleaciones con nuestro horno de fusión por inducción en vacío. Ideal para las industrias aeroespacial, de energía nuclear y electrónica. Haga su pedido ahora para fundir y colar metales y aleaciones de forma eficaz.

Espacios en blanco para herramientas de corte

Espacios en blanco para herramientas de corte

Herramientas de corte de diamante CVD: resistencia al desgaste superior, baja fricción, alta conductividad térmica para mecanizado de materiales no ferrosos, cerámica y compuestos


Deja tu mensaje