Conocimiento ¿Cuáles son los 4 métodos principales de producción de grafeno?
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 4 semanas

¿Cuáles son los 4 métodos principales de producción de grafeno?

La producción de grafeno implica varios métodos, cada uno con sus propias ventajas y limitaciones.

4 Métodos principales de producción de grafeno

¿Cuáles son los 4 métodos principales de producción de grafeno?

1. Deposición química en fase vapor (CVD)

La deposición química en fase vapor (CVD) es el método más utilizado para producir grafeno de alta calidad a gran escala.

En este proceso, el grafeno se cultiva sobre un sustrato, normalmente un metal como el cobre o el níquel.

Un gas hidrocarburo, normalmente metano, se calienta a altas temperaturas para descomponerlo en átomos de carbono e hidrógeno.

Los átomos de carbono se unen al sustrato metálico y se reorganizan para formar una capa de grafeno cuando el sistema se enfría.

El CVD es el método preferido por su escalabilidad y la alta calidad del grafeno que produce.

Técnicas como los procesos lote a lote (B2B) o rollo a rollo (R2R) pueden mejorar aún más el rendimiento y conseguir películas de grafeno de mayores dimensiones.

2. Exfoliación mecánica

La exfoliación mecánica consiste en desprender capas de grafeno de un grafito a granel utilizando cinta adhesiva.

Geim y Novoselov fueron los pioneros de este método.

Aunque puede producir grafeno de alta calidad, no es escalable para la producción industrial debido a su bajo rendimiento y a su incapacidad para producir grafeno de gran superficie.

3. Exfoliación en fase líquida

En este método, el grafito a granel se dispersa en un disolvente y se somete a alta energía, como ultrasonidos, para separar las capas de grafeno.

El disolvente debe tener una tensión superficial adecuada para estabilizar los copos de grafeno.

Aunque este método puede utilizarse para la producción en masa, la calidad del grafeno producido suele ser inferior en términos de propiedades eléctricas en comparación con el CVD o la exfoliación mecánica.

4. Sublimación de carburo de silicio (SiC)

Esta técnica consiste en calentar el SiC a altas temperaturas en un vacío ultraalto, lo que provoca la sublimación del silicio y deja una capa de grafeno en la superficie del SiC.

Aunque este método puede producir grafeno de alta calidad, es costoso y requiere cantidades significativas de SiC, lo que lo hace menos adecuado para la producción a gran escala.

Cada uno de estos métodos tiene sus ventajas y limitaciones, siendo el CVD el que actualmente lidera las aplicaciones industriales debido a su equilibrio entre calidad, escalabilidad y rentabilidad.

Siga explorando, consulte a nuestros expertos

Explore la vanguardia de la producción de grafeno con KINTEK SOLUTION.

Nuestra vanguardista tecnología de deposición química en fase vapor (CVD) es su opción para la producción de grafeno a gran escala y de alta calidad.

Experimente una escalabilidad, precisión y rentabilidad sin precedentes.

Mejore sus proyectos de investigación e industriales con las soluciones superiores de grafeno de KINTEK SOLUTION.

¡Innovemos juntos!

Productos relacionados

Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Una tecnología utilizada principalmente en el campo de la electrónica de potencia. Es una película de grafito hecha de material fuente de carbono por deposición de material utilizando tecnología de haz de electrones.

Placa de grafito de carbono - isostático

Placa de grafito de carbono - isostático

El grafito de carbono isostático se prensa a partir de grafito de alta pureza. Es un material excelente para la fabricación de toberas de cohetes, materiales de desaceleración y materiales reflectantes para reactores de grafito.

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD: conductividad térmica, calidad del cristal y adherencia superiores para herramientas de corte, fricción y aplicaciones acústicas

Horno de grafitización de temperatura ultraalta

Horno de grafitización de temperatura ultraalta

El horno de grafitización de temperatura ultraalta utiliza calentamiento por inducción de frecuencia media en un ambiente de vacío o gas inerte. La bobina de inducción genera un campo magnético alterno, induciendo corrientes parásitas en el crisol de grafito, que se calienta e irradia calor a la pieza de trabajo, llevándola a la temperatura deseada. Este horno se utiliza principalmente para la grafitización y sinterización de materiales de carbono, materiales de fibra de carbono y otros materiales compuestos.

Horno de grafitización continua

Horno de grafitización continua

El horno de grafitización de alta temperatura es un equipo profesional para el tratamiento de grafitización de materiales de carbono. Es un equipo clave para la producción de productos de grafito de alta calidad. Tiene alta temperatura, alta eficiencia y calentamiento uniforme. Es adecuado para diversos tratamientos de alta temperatura y tratamientos de grafitización. Es ampliamente utilizado en la industria metalúrgica, electrónica, aeroespacial, etc.

Horno de grafitización de material negativo

Horno de grafitización de material negativo

El horno de grafitización para la producción de baterías tiene una temperatura uniforme y un bajo consumo de energía. Horno de grafitización para materiales de electrodos negativos: una solución de grafitización eficiente para la producción de baterías y funciones avanzadas para mejorar el rendimiento de la batería.

Horno de grafitización de película de alta conductividad térmica

Horno de grafitización de película de alta conductividad térmica

El horno de grafitización de película de alta conductividad térmica tiene una temperatura uniforme, un bajo consumo de energía y puede funcionar de forma continua.

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

La matriz de embutición de revestimiento compuesto de nanodiamante utiliza carburo cementado (WC-Co) como sustrato, y emplea el método de fase de vapor químico (método CVD para abreviar) para recubrir el diamante convencional y el revestimiento compuesto de nanodiamante en la superficie del orificio interior del molde.

Horno de grafitización experimental IGBT

Horno de grafitización experimental IGBT

Horno de grafitización experimental IGBT, una solución personalizada para universidades e instituciones de investigación, con alta eficiencia de calentamiento, facilidad de uso y control preciso de la temperatura.

Diamante dopado con boro CVD

Diamante dopado con boro CVD

Diamante dopado con boro CVD: un material versátil que permite una conductividad eléctrica, transparencia óptica y propiedades térmicas excepcionales personalizadas para aplicaciones en electrónica, óptica, detección y tecnologías cuánticas.

Horno horizontal de grafitización de alta temperatura

Horno horizontal de grafitización de alta temperatura

Horno de grafitización horizontal: este tipo de horno está diseñado con los elementos calefactores colocados horizontalmente, lo que permite un calentamiento uniforme de la muestra. Es muy adecuado para grafitizar muestras grandes o voluminosas que requieren uniformidad y control preciso de la temperatura.

Diamante CVD para gestión térmica.

Diamante CVD para gestión térmica.

Diamante CVD para gestión térmica: Diamante de alta calidad con conductividad térmica de hasta 2000 W/mK, ideal para esparcidores de calor, diodos láser y aplicaciones de GaN sobre diamante (GOD).

Horno de prensado en caliente al vacío

Horno de prensado en caliente al vacío

¡Descubra las ventajas del Horno de Prensado en Caliente al Vacío! Fabrique metales y compuestos refractarios densos, cerámica y materiales compuestos a alta temperatura y presión.

Crisol de evaporación de grafito

Crisol de evaporación de grafito

Recipientes para aplicaciones de alta temperatura, donde los materiales se mantienen a temperaturas extremadamente altas para que se evaporen, lo que permite depositar películas delgadas sobre los sustratos.

Blanco de pulverización catódica de carbono de alta pureza (C)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de carbono de alta pureza (C)/polvo/alambre/bloque/gránulo

¿Está buscando materiales de carbono (C) asequibles para sus necesidades de laboratorio? ¡No busque más! Nuestros materiales fabricados y adaptados por expertos vienen en una variedad de formas, tamaños y purezas. Elija entre objetivos de pulverización catódica, materiales de recubrimiento, polvos y más.

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.


Deja tu mensaje