El proceso de sputtering implica el uso de gases específicos para garantizar la deposición eficiente y eficaz de materiales sobre un sustrato.
Explicación de los 5 gases clave
1. Argón
El argón es el gas más común y rentable utilizado en el proceso de sputtering.
2. Criptón
El criptón se utiliza para el sputtering de elementos pesados debido a su mayor peso atómico.
3. Xenón
El xenón, al igual que el criptón, se elige por su capacidad para pulverizar eficientemente materiales pesados.
4. Neón
Se prefiere el neón para la pulverización catódica de elementos ligeros debido a su menor peso atómico.
5. Gases reactivos (oxígeno y nitrógeno)
Los gases reactivos como el oxígeno y el nitrógeno se utilizan en combinación con gases inertes para depositar películas finas de óxidos, nitruros y otros compuestos.
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