El sputtering es un método utilizado para crear películas finas sobre una superficie.
Esta técnica es importante en muchas industrias, como la electrónica y la óptica.
El proceso consta de varios pasos principales que garantizan la correcta creación de la película.
¿Cuáles son los 6 pasos clave del proceso de sputtering?
1. Creación del vacío
En primer lugar, se vacía de aire la cámara donde tiene lugar el proceso.
Esto se hace a una presión muy baja, de unos 10^-6 torr.
Este paso es importante porque mantiene limpio el entorno.
2. Introducción del gas de pulverización catódica
A continuación, se introduce en la cámara un gas como el argón.
El tipo de gas utilizado depende del material que se esté fabricando.
3. 3. Generación de plasma
Se aplica un voltaje para crear una descarga luminosa.
Esta descarga es un tipo de plasma, necesario para el siguiente paso.
4. Ionización del gas
En el plasma, los electrones chocan con los átomos del gas.
Esto hace que los átomos pierdan electrones y se conviertan en iones cargados positivamente.
5. 5. Aceleración de los iones hacia el objetivo
Los iones positivos son empujados hacia el material objetivo.
Estos iones golpean el objetivo con mucha energía.
6. Depósito del material expulsado
Los impactos de alta energía hacen que se desprenda material del blanco.
Este material pasa entonces a la superficie, formando una fina película.
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