Una máquina de sputtering es un dispositivo especializado utilizado para depositar películas finas de material sobre diversos sustratos. Este proceso implica la expulsión de átomos de un material fuente, conocido como blanco de sputtering, debido al bombardeo de partículas energéticas. Estos átomos expulsados se desplazan y depositan sobre un sustrato, formando una película fina con propiedades específicas. Las máquinas de sputtering son versátiles y pueden utilizarse en diversas industrias, como la fabricación de semiconductores y la ciencia de materiales.
Cómo funciona el sputtering:
El sputtering es un proceso al vacío que consiste en crear una corriente de adátomos (átomos listos para formar una nueva capa) a partir de una fuente sólida. El material fuente se coloca en una cámara de vacío llena de un gas inerte. Cuando el material fuente se carga negativamente, se convierte en cátodo y se emiten electrones libres. Estos electrones chocan con los átomos de gas, provocando su ionización y la formación de un plasma. A continuación, los átomos de gas ionizados aceleran hacia el blanco cargado negativamente, desprendiendo átomos de la superficie del blanco. Estos átomos pulverizados viajan a través del vacío y se depositan sobre un sustrato, formando una fina película.Tipos de máquinas de sputtering:
Existen diferentes tipos de máquinas de pulverización catódica, como la pulverización catódica por haz de iones y la pulverización catódica por magnetrón. El bombardeo por haz de iones consiste en enfocar un haz de iones-electrones directamente sobre el objetivo para bombardear el material sobre un sustrato. El sputtering por magnetrón utiliza un campo magnético para mejorar la ionización del gas y aumentar la velocidad de sputtering.
Aplicaciones e innovaciones:
Las máquinas de sputtering se utilizan para diversas aplicaciones, como el recubrimiento de muestras biológicas con platino para microscopía electrónica de barrido, el depósito de películas finas en la industria de semiconductores y el grabado de capas superficiales para analizar la composición química. El proceso es muy adaptable y permite crear películas con distintas propiedades, como la reflectividad o la conductividad eléctrica, entre otras. Las innovaciones en la tecnología de sputtering han dado lugar a más de 45.000 patentes estadounidenses desde 1976, lo que pone de relieve su importancia en la fabricación de materiales y dispositivos avanzados.
Equipos y mantenimiento:
