Conocimiento What should be the voltage pulse in high power pulsed magnetron sputtering? (4 Key Factors Explained)
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 2 meses

What should be the voltage pulse in high power pulsed magnetron sputtering? (4 Key Factors Explained)

High power pulsed magnetron sputtering (HiPIMS) is a technique that involves applying a high peak voltage in short pulses. These pulses are typically very brief, lasting between 50 to 200 microseconds. The frequency of these pulses is around 500 Hz. The duty cycle, which is the ratio of the "on" time to the "off" time, is usually less than 10%. This means that the system spends most of its time in the "off" state.

4 Key Factors Explained

What should be the voltage pulse in high power pulsed magnetron sputtering? (4 Key Factors Explained)

1. High Peak Voltage

The voltage applied in HiPIMS is characterized by high peak values. This high voltage is essential to achieve the high power densities needed for efficient sputtering. The exact voltage can vary depending on the specific setup and materials involved. However, it generally falls within the range of 100V to 3kV.

2. Short Pulse Durations

The pulses in HiPIMS are very short, typically between 50 to 200 microseconds. This short duration allows for the concentration of energy into a brief period. This enhances the ionization of the sputtered particles and leads to a higher degree of ionization compared to continuous DC sputtering. This high degree of ionization is beneficial for improving the film quality and adhesion.

3. Low Frequency and Duty Cycle

The frequency of the pulses in HiPIMS is relatively low, around 500 Hz, and the duty cycle is less than 10%. A low duty cycle means that the system spends most of its time in the "off" state. This allows for cooling and stabilization between pulses. This intermittent operation helps in controlling the temperature and preventing thermal damage to the target and substrate.

4. Operational Modes

Depending on the pulse duration and frequency, the HiPIMS system can operate in either voltage mode or current mode. In voltage mode, which is typical for shorter pulses and higher frequencies, the focus is on rapid voltage changes to accelerate ions. In current mode, which is more common with longer pulses and lower frequencies, the system maintains a constant current to sustain the sputtering process.

Continue exploring, consult our experts

Elevate your thin film deposition capabilities with KINTEK SOLUTION's cutting-edge HiPIMS technology. Experience the precision of high peak voltages, optimized pulse durations, and innovative low-frequency operation. Trust us to deliver the ultimate in sputtering performance that not only increases deposition rates but also guarantees superior film quality and thermal control. Discover how KINTEK SOLUTION can empower your laboratory with top-tier HiPIMS systems today!

Productos relacionados

Horno de fusión por levitación al vacío

Horno de fusión por levitación al vacío

Experimente una fusión precisa con nuestro horno de fusión por levitación al vacío. Ideal para metales o aleaciones de alto punto de fusión, con tecnología avanzada para una fundición efectiva. Ordene ahora para obtener resultados de alta calidad.

Horno de sinterización por plasma de chispa Horno SPS

Horno de sinterización por plasma de chispa Horno SPS

Descubra las ventajas de los hornos de sinterización por plasma de chispa para la preparación rápida de materiales a baja temperatura. Calentamiento uniforme, bajo coste y respetuoso con el medio ambiente.

Horno de fusión por inducción en vacío Horno de fusión de arco

Horno de fusión por inducción en vacío Horno de fusión de arco

Obtenga una composición precisa de las aleaciones con nuestro horno de fusión por inducción en vacío. Ideal para las industrias aeroespacial, de energía nuclear y electrónica. Haga su pedido ahora para fundir y colar metales y aleaciones de forma eficaz.

Sistema de hilado por fusión al vacío

Sistema de hilado por fusión al vacío

Desarrolle materiales metaestables con facilidad utilizando nuestro sistema de hilado por fusión al vacío. Ideal para trabajos de investigación y experimentación con materiales amorfos y microcristalinos. Ordene ahora para obtener resultados efectivos.

Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

Obtenga películas de diamante de alta calidad con nuestra máquina Bell-jar Resonator MPCVD diseñada para laboratorio y crecimiento de diamantes. Descubra cómo funciona la deposición de vapor químico de plasma de microondas para el cultivo de diamantes utilizando gas de carbono y plasma.

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.

Horno de grafitización de temperatura ultraalta

Horno de grafitización de temperatura ultraalta

El horno de grafitización de temperatura ultraalta utiliza calentamiento por inducción de frecuencia media en un ambiente de vacío o gas inerte. La bobina de inducción genera un campo magnético alterno, induciendo corrientes parásitas en el crisol de grafito, que se calienta e irradia calor a la pieza de trabajo, llevándola a la temperatura deseada. Este horno se utiliza principalmente para la grafitización y sinterización de materiales de carbono, materiales de fibra de carbono y otros materiales compuestos.

Horno de prensado en caliente al vacío

Horno de prensado en caliente al vacío

¡Descubra las ventajas del Horno de Prensado en Caliente al Vacío! Fabrique metales y compuestos refractarios densos, cerámica y materiales compuestos a alta temperatura y presión.

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.

Horno de prensado en caliente de tubos al vacío

Horno de prensado en caliente de tubos al vacío

Reduzca la presión de conformado y acorte el tiempo de sinterización con el Horno de Prensado en Caliente con Tubo de Vacío para materiales de alta densidad y grano fino. Ideal para metales refractarios.

Horno de grafitización de película de alta conductividad térmica

Horno de grafitización de película de alta conductividad térmica

El horno de grafitización de película de alta conductividad térmica tiene una temperatura uniforme, un bajo consumo de energía y puede funcionar de forma continua.

Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio

Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio

Conozca la máquina MPCVD de resonador cilíndrico, el método de deposición química en fase vapor por plasma de microondas utilizado para el crecimiento de gemas y películas de diamante en las industrias de joyería y semiconductores. Descubra sus ventajas económicas frente a los métodos HPHT tradicionales.

Horno de arco al vacío

Horno de arco al vacío

Descubra el poder del horno de arco al vacío para fundir metales activos y refractarios. Alta velocidad, notable efecto desgasificador y libre de contaminación. ¡Aprende más ahora!

Blanco de pulverización catódica de platino (Pt) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de platino (Pt) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blancos, polvos, alambres, bloques y gránulos de platino (Pt) de alta pureza a precios asequibles. Adaptado a sus necesidades específicas con diversos tamaños y formas disponibles para diversas aplicaciones.


Deja tu mensaje