Las fuentes para sputtering de magnetrón se enfrían durante la deposición por varias razones.
4 razones principales por las que las fuentes de sputtering de magnetrón se enfrían durante la deposición
1. 1. Disipación del calor
Durante el proceso de sputtering, iones de alta energía bombardean el material objetivo.
Esto provoca la expulsión de átomos metálicos y genera calor.
La refrigeración del blanco con agua ayuda a disipar este calor y a evitar el sobrecalentamiento.
Al mantener una temperatura más baja, el material objetivo puede seguir liberando átomos de forma eficaz para la deposición sin alcanzar su punto de fusión.
2. Prevención de daños
El uso de imanes potentes en el sputtering por magnetrón ayuda a confinar los electrones del plasma cerca de la superficie del cátodo.
Este confinamiento evita el impacto directo de los electrones con el sustrato o la película en crecimiento, lo que podría causar daños.
El enfriamiento del blanco ayuda aún más a evitar daños al reducir la transferencia de energía del material del blanco al sustrato.
3. Mantener la calidad de la película
La refrigeración del blanco en el sputtering magnetrónico ayuda a mantener la calidad de la película depositada.
Controlando la temperatura, el proceso de deposición puede optimizarse para conseguir las propiedades deseadas de la película, como el espesor, la adherencia y la uniformidad.
El enfriamiento también ayuda a minimizar la incorporación de gases de fondo en la película en crecimiento, lo que se traduce en un recubrimiento de mayor calidad.
4. Compatibilidad con diversos materiales
El sputtering por magnetrón es una técnica de deposición versátil que puede utilizarse con una amplia gama de materiales, independientemente de su temperatura de fusión.
El enfriamiento del blanco permite la deposición de materiales con puntos de fusión más altos, ampliando la gama de posibles materiales de recubrimiento.
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