Materiales de laboratorio
Blanco de pulverización catódica de carburo de boro (BC)/polvo/alambre/bloque/gránulo
Número de artículo : LM-BC
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Fórmula química
- antes de Cristo
- Pureza
- 2N5
- Forma
- discos / alambre / bloque / polvo / placas / objetivos de columna / objetivo de paso / hecho a medida
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¡Obtenga su cotización ahora! Dejar un mensaje Cotización Rápida Via Chat en líneaA precios razonables, ofrecemos materiales de carburo de boro (BC) para uso en laboratorio. Nos especializamos en producir y personalizar materiales BC de varias purezas, formas y tamaños para satisfacer sus necesidades específicas. Nuestra gama de ofertas incluye objetivos de pulverización catódica (circular, cuadrada, tubular, irregular), materiales de revestimiento, cilindros, conos, partículas, láminas, polvos, polvos para impresión 3D, polvos nanométricos, alambrón, lingotes y bloques, entre otros.
Detalles
Acerca del carburo de boro (BC)
Nos especializamos en la producción de objetivos de pulverización catódica de carburo de boro (BC) de alta pureza para su uso en semiconductores, deposición química de vapor (CVD), deposición física de vapor (PVD), visualización y aplicaciones ópticas. Nuestros objetivos de pulverización tienen la densidad más alta posible y los tamaños de grano promedio más pequeños.
Nuestros objetivos de pulverización catódica estándar para películas delgadas están disponibles en forma monobloque o adherida con dimensiones planas y configuraciones de hasta 820 mm. Vienen con ubicaciones de perforación, roscado, biselado, ranuras y respaldo diseñados para funcionar con dispositivos de pulverización catódica tanto más antiguos como más recientes, incluido el recubrimiento de área grande para energía solar o celdas de combustible y aplicaciones flip-chip. Ofrecemos todas las formas y configuraciones de objetivos compatibles con todas las armas estándar.
Todos los objetivos se someten a un análisis exhaustivo utilizando las mejores técnicas demostradas, que incluyen fluorescencia de rayos X (XRF), espectrometría de masas de descarga luminiscente (GDMS) y plasma acoplado inductivamente (ICP).
La pulverización catódica es el proceso de deposición de una película delgada utilizando material metálico u óxido pulverizado de ultra alta pureza sobre otro sustrato sólido a través de la eliminación controlada y la conversión del material objetivo en una fase gaseosa/de plasma dirigida mediante bombardeo iónico. Nuestros materiales se producen mediante cristalización, estado sólido y otros procesos de ultra alta purificación, como la sublimación.
Control de calidad de ingredientes
- Análisis de composición de materias primas
- Mediante el uso de equipos como ICP y GDMS, el contenido de impurezas metálicas se detecta y analiza para garantizar que cumpla con el estándar de pureza;
Las impurezas no metálicas son detectadas por equipos tales como analizadores de carbono y azufre, analizadores de nitrógeno y oxígeno. - Análisis de detección de fallas metalográficas.
- El material de destino se inspecciona utilizando un equipo de detección de fallas para garantizar que no haya defectos ni agujeros de contracción dentro del producto;
A través de pruebas metalográficas, se analiza la estructura interna del grano del material objetivo para garantizar que los granos sean finos y densos. - Inspección de apariencia y dimensión.
- Las dimensiones del producto se miden con micrómetros y calibradores de precisión para garantizar el cumplimiento de los dibujos;
El acabado superficial y la limpieza del producto se miden con un medidor de limpieza superficial.
Tamaños de objetivos de pulverización convencional
- Proceso de preparación
- Prensado isostático en caliente, fusión al vacío, etc.
- Forma del objetivo de pulverización catódica
- objetivo de pulverización catódica plano, objetivo de pulverización catódica multiarco, objetivo de pulverización catódica escalonada, objetivo de pulverización catódica de forma especial
- Tamaño del objetivo de pulverización catódica redonda
- Diámetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espesor: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
El tamaño se puede personalizar. - Tamaño del objetivo de pulverización catódica cuadrada
- 50 × 50 × 3 mm / 100 × 100 × 4 mm / 300 × 300 × 5 mm, el tamaño se puede personalizar
Formas de metal disponibles
Detalles de formas de metal
Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.
- Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
- Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
- Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
- Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
- Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
- Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
- Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes
KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.
embalaje
Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.
FAQ
¿Qué es el objetivo de pulverización catódica?
¿Cómo se fabrican los blancos de pulverización catódica?
¿Para qué se utiliza el objetivo de pulverización catódica?
¿Qué son los objetivos de pulverización catódica para la electrónica?
¿Cuál es la vida útil de un objetivo de pulverización catódica?
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