El recubrimiento por pulverización catódica para SEM suele consistir en la aplicación de una capa ultrafina de metal, como oro, oro/paladio, platino, plata, cromo o iridio, sobre muestras no conductoras o poco conductoras.
El objetivo de este recubrimiento es evitar la carga de la muestra y mejorar la relación señal-ruido aumentando la emisión de electrones secundarios.
El espesor de las películas bombardeadas suele oscilar entre 2 y 20 nm.
5 Aspectos clave del grosor del recubrimiento por pulverización catódica
1. Gama de espesores
El espesor estándar de los recubrimientos por pulverización catódica utilizados en microscopía electrónica de barrido (SEM) oscila entre 2 y 20 nm.
Este rango se elige para garantizar que el recubrimiento sea lo suficientemente fino como para no oscurecer los detalles finos de la muestra, pero lo suficientemente grueso como para proporcionar una conductividad eléctrica adecuada y evitar la carga.
2. Ejemplos concretos
Se recubrió una oblea de 6" con 3 nm de oro/paladio utilizando el recubridor por pulverización catódica SC7640, demostrando que se pueden conseguir recubrimientos incluso más finos (hasta 3 nm) con equipos de precisión.
Una imagen TEM mostró una película de platino sputtered de 2 nm, lo que indica la capacidad de producir recubrimientos muy finos adecuados para imágenes de alta resolución.
3. Cálculo del espesor
Los experimentos realizados con técnicas interferométricas han proporcionado una fórmula para calcular el espesor de los recubrimientos de Au/Pd: [ Th = 7.5 I t \text{ (angstroms)} ] donde ( Th ) es el espesor en angstroms, ( I ) es la corriente en mA, y ( t ) es el tiempo en minutos.
Esta fórmula es aplicable en condiciones específicas (V = 2,5KV, distancia del blanco a la probeta = 50mm).
4. Uniformidad y precisión del recubrimiento
Los sputter coaters de gama alta equipados con características como alto vacío, entornos de gas inerte y monitores de espesor de película pueden depositar recubrimientos tan finos como 1 nm.
Estas herramientas de precisión son cruciales para aplicaciones que requieren alta resolución, como el análisis EBSD, en el que hasta el más mínimo detalle es importante.
5. Impacto del grosor del revestimiento en la obtención de imágenes
En los microscopios electrónicos de barrido de alta resolución (<5 nm), los recubrimientos de 10-20 nm de grosor pueden empezar a ocultar los detalles más finos de la muestra.
Por lo tanto, se prefieren revestimientos más finos para mantener la integridad de las características de la superficie de la muestra.
Siga explorando, consulte a nuestros expertos
Descubra la precisión y versatilidad de nuestrasistemas de recubrimiento por pulverización catódica KINTEK SOLUTIONdiseñados para mejorar su experiencia en imágenes SEM.
Con capacidades inigualables para lograr recubrimientos ultrafinos de tan sólo1 nmnuestros equipos garantizan una óptima relación señal/ruido y mantienen los detalles de sus muestras.
Confíe en KINTEK SOLUTION para obtener recubrimientos por pulverización catódica de la máxima calidad que impulsen su investigación.
Póngase en contacto con nosotros hoy mismo para elevar su análisis SEM a nuevas cotas de claridad y detalle.
