Conocimiento ¿Qué grosor tiene el recubrimiento por pulverización catódica?
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Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 1 semana

¿Qué grosor tiene el recubrimiento por pulverización catódica?

El recubrimiento por pulverización catódica para SEM suele consistir en la aplicación de una capa ultrafina de metal, como oro, oro/paladio, platino, plata, cromo o iridio, sobre muestras no conductoras o poco conductoras. El objetivo de este recubrimiento es evitar la carga de la muestra y mejorar la relación señal-ruido aumentando la emisión de electrones secundarios. El espesor de las películas pulverizadas oscila generalmente entre 2 y 20 nm.

Explicación detallada:

  1. Gama de espesores: El grosor estándar de los recubrimientos por pulverización catódica utilizados en microscopía electrónica de barrido (SEM) oscila entre 2 y 20 nm. Este rango se elige para garantizar que el recubrimiento sea lo suficientemente fino como para no oscurecer los detalles finos de la muestra, pero lo suficientemente grueso como para proporcionar una conductividad eléctrica adecuada y evitar la carga.

  2. Ejemplos concretos:

    • Se recubrió una oblea de 6" con 3 nm de oro/paladio utilizando el recubridor por pulverización catódica SC7640, demostrando que se pueden conseguir recubrimientos incluso más finos (hasta 3 nm) con equipos de precisión.
    • Una imagen TEM mostró una película de platino de 2 nm, lo que indica la capacidad de producir recubrimientos muy finos adecuados para imágenes de alta resolución.
  3. Cálculo del espesor: Los experimentos realizados con técnicas interferométricas han proporcionado una fórmula para calcular el espesor de los revestimientos de Au/Pd:

  4. [Th = 7,5 I t \text{ (angstroms)}

  5. ]donde ( Th ) es el espesor en angstroms, ( I ) es la corriente en mA, y ( t ) es el tiempo en minutos. Esta fórmula es aplicable en condiciones específicas (V = 2,5KV, distancia del blanco a la probeta = 50mm).

Uniformidad y precisión del revestimiento

: Los sputter coaters de gama alta equipados con características como alto vacío, entornos de gas inerte y monitores de espesor de película pueden depositar revestimientos tan finos como 1 nm. Estas herramientas de precisión son cruciales para aplicaciones que requieren alta resolución, como el análisis EBSD, en el que hasta el más mínimo detalle es importante.

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