Las ventajas del bombardeo por haz de iones (IBS) incluyen:
1. Presión de cámara más baja: El plasma en IBS se aloja dentro de la fuente de iones, lo que permite una presión de cámara mucho más baja en comparación con el sputtering de magnetrón tradicional. Esto reduce el nivel de contaminación en la película.
2. 2. Óptima unión energética: El bombardeo por haz de iones utiliza una energía de unión unas 100 veces superior a la del recubrimiento por vacío. Esto garantiza una calidad superior y una fuerte unión incluso después de la deposición superficial.
3. 3. Versatilidad: El IBS permite la deposición de cualquier material. Las características de sputtering de los distintos materiales son menores en comparación con la evaporación, lo que facilita el sputtering de materiales con altos puntos de fusión. Además, los materiales de aleación y compuestos objetivo pueden ser pulverizados para formar una película con la misma proporción que el componente objetivo.
4. 4. Control de precisión: El bombardeo por haz de iones ofrece un control preciso de diversos parámetros, como la velocidad de bombardeo del blanco, el ángulo de incidencia, la energía iónica, la densidad de corriente iónica y el flujo iónico. Esto da como resultado películas lisas, densas y firmemente depositadas con una precisión excelente.
5. Uniformidad: El bombardeo por haz de iones proporciona una gran uniformidad en las películas bombardeadas. El haz de iones puede enfocarse y escanearse con precisión, lo que permite una deposición uniforme sobre el sustrato. Además, la energía, el tamaño y la dirección del haz de iones pueden controlarse, lo que garantiza una película uniforme sin colisiones.
A pesar de estas ventajas, el bombardeo por haz de iones también tiene algunas limitaciones. El área objetivo de bombardeo es relativamente pequeña, lo que da lugar a una tasa de deposición generalmente baja. Puede no ser adecuado para depositar películas de gran superficie y espesor uniforme. Además, el dispositivo de bombardeo puede ser complejo y los costes de funcionamiento del equipo tienden a ser más elevados en comparación con otras técnicas de deposición.
En general, el pulverizado con haz de iones es una técnica valiosa para lograr la deposición de películas finas de alta calidad con un control y una uniformidad precisos. Tiene amplias aplicaciones en diversas industrias.
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