El bombardeo por haz de iones (IBS) es una sofisticada técnica utilizada en diversas industrias para la deposición de películas finas de alta calidad.
¿Cuáles son las 5 principales ventajas del sputtering por haz de iones?
1. Menor presión de la cámara
El plasma en IBS se aloja dentro de la fuente de iones.
Esto permite una presión de cámara mucho más baja en comparación con el sputtering por magnetrón tradicional.
Esta reducción de la presión disminuye significativamente el nivel de contaminación en la película.
2. Óptima unión energética
El sputtering por haz de iones utiliza una energía de unión unas 100 veces superior a la del recubrimiento por vacío.
Esto garantiza una calidad superior y una fuerte unión incluso después de la deposición superficial.
3. Versatilidad
El IBS permite la deposición de cualquier material.
Las características de sputtering de los distintos materiales son menores en comparación con la evaporación.
Esto facilita la pulverización catódica de materiales con altos puntos de fusión.
Además, los materiales de aleación y compuestos objetivo pueden ser pulverizados para formar una película con la misma proporción que el componente objetivo.
4. Control de precisión
El sputtering por haz de iones ofrece un control preciso de varios parámetros.
Entre ellos se incluyen la velocidad de pulverización del blanco, el ángulo de incidencia, la energía iónica, la densidad de corriente iónica y el flujo iónico.
