El bombardeo iónico es un método utilizado para crear películas finas. Consiste en utilizar una herramienta especial llamada fuente de iones para disparar partículas diminutas llamadas iones a un material objetivo. Estos iones desprenden fragmentos del material objetivo, que caen sobre una superficie y forman una fina película. El resultado es una película muy densa y de gran calidad.
¿En qué consiste el proceso de pulverización iónica? (Explicación de los 4 pasos clave)
1. 1. Generación del haz de iones
Una fuente de iones crea un haz de iones. Estos iones suelen estar hechos de un gas inerte como el argón. Todos tienen el mismo nivel de energía y viajan en una trayectoria recta y estrecha.
2. Impacto de los iones en el blanco
El haz de iones se dirige a un material diana, que puede ser metálico o dieléctrico. Los iones de alta energía chocan contra el objetivo y desprenden átomos o moléculas debido a la transferencia de energía.
3. 3. Deposición sobre el sustrato
El material desprendido del blanco viaja a través del vacío y cae sobre un sustrato. Así se forma una fina película sobre la superficie del sustrato.
4. Control y precisión
La energía y la dirección del haz de iones pueden controlarse con precisión. Esto permite crear películas muy uniformes y densas, lo que es importante para aplicaciones de alta precisión.
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