Conocimiento ¿Cuál es el espesor de la capa de nitruración por plasma? (5 factores clave explicados)
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 1 mes

¿Cuál es el espesor de la capa de nitruración por plasma? (5 factores clave explicados)

El espesor de la capa de nitruración por plasma puede variar en función de diversos factores, como el tipo de material tratado, la temperatura de nitruración y el tiempo de tratamiento.

¿Qué espesor tiene la capa de nitruración por plasma? (Explicación de 5 factores clave)

¿Cuál es el espesor de la capa de nitruración por plasma? (5 factores clave explicados)

1. Tipo de material

El tipo de material a tratar afecta significativamente el espesor de la capa de nitruración por plasma.

2. Temperatura de nitruración

La temperatura de nitruración juega un papel crucial en la determinación de la profundidad de la capa de difusión.

3. Tiempo de tratamiento

Para una temperatura dada, la profundidad de la capa aumenta aproximadamente como la raíz cuadrada del tiempo. Esto indica que cuanto mayor es el tiempo de tratamiento, más profundamente puede penetrar la capa de nitruración.

4. Potencia del plasma

La potencia del plasma o densidad de corriente es otra variable del proceso que puede influir en el espesor de la capa compuesta. La potencia del plasma es función de la superficie y puede afectar a la formación y espesor de la capa compuesta.

5. Proceso alternativo: Nitrocarburación con plasma

La nitrocarburación por plasma es una alternativa a la nitruración por plasma para conseguir capas compuestas especialmente gruesas. La profundidad de la capa de nitrocarburación puede variar en función del material utilizado, la temperatura de tratamiento y el tiempo de tratamiento.

En resumen, el espesor de la capa de nitruración por plasma puede variar en función de factores como el tipo de material, la temperatura de nitruración, el tiempo de tratamiento y la potencia del plasma. Sin embargo, en base a las referencias proporcionadas, el espesor de la capa de difusión formada por nitruración por plasma es de aproximadamente 80 µm.

Siga explorando, consulte a nuestros expertos

Actualice su equipo de laboratorio conKINTEK para una nitruración por plasma precisa y eficaz. Consiga una profundidad de caja y un espesor de capa de compuesto óptimos con nuestra avanzada tecnología.Póngase en contacto con nosotros para mejorar sus capacidades de investigación y mantenerse a la vanguardia en el campo de la ciencia de los materiales.

Productos relacionados

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.

Blanco de pulverización catódica de nitruro de titanio (TiN)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de nitruro de titanio (TiN)/polvo/alambre/bloque/gránulo

¿Está buscando materiales asequibles de nitruro de titanio (TiN) para su laboratorio? Nuestra experiencia radica en la producción de materiales personalizados de diferentes formas y tamaños para satisfacer sus necesidades únicas. Ofrecemos una amplia gama de especificaciones y tamaños para objetivos de pulverización catódica, recubrimientos y más.

Hoja de cerámica de nitruro de aluminio (AlN)

Hoja de cerámica de nitruro de aluminio (AlN)

El nitruro de aluminio (AlN) tiene las características de una buena compatibilidad con el silicio. No solo se utiliza como ayuda para la sinterización o fase de refuerzo de la cerámica estructural, sino que su rendimiento supera con creces al de la alúmina.

papel carbón para baterías

papel carbón para baterías

Membrana de intercambio de protones delgada con baja resistividad; alta conductividad de protones; baja densidad de corriente de permeación de hidrógeno; larga vida; Adecuado para separadores de electrolitos en pilas de combustible de hidrógeno y sensores electroquímicos.

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

La matriz de embutición de revestimiento compuesto de nanodiamante utiliza carburo cementado (WC-Co) como sustrato, y emplea el método de fase de vapor químico (método CVD para abreviar) para recubrir el diamante convencional y el revestimiento compuesto de nanodiamante en la superficie del orificio interior del molde.

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD: conductividad térmica, calidad del cristal y adherencia superiores para herramientas de corte, fricción y aplicaciones acústicas

Horno de deposición química mejorada con plasma rotativo inclinado (PECVD)

Horno de deposición química mejorada con plasma rotativo inclinado (PECVD)

Presentamos nuestro horno PECVD giratorio inclinado para la deposición precisa de películas delgadas. Disfrute de una fuente de coincidencia automática, control de temperatura programable PID y control de caudalímetro másico MFC de alta precisión. Características de seguridad integradas para su tranquilidad.

Célula de electrólisis espectral de capa fina

Célula de electrólisis espectral de capa fina

Descubra los beneficios de nuestra celda de electrólisis espectral de capa delgada. Resistente a la corrosión, con especificaciones completas y personalizable para sus necesidades.

Nitruro de silicio (SiNi) Chapa cerámica Mecanizado de precisión Cerámica

Nitruro de silicio (SiNi) Chapa cerámica Mecanizado de precisión Cerámica

La placa de nitruro de silicio es un material cerámico muy utilizado en la industria metalúrgica debido a su rendimiento uniforme a altas temperaturas.

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de nitruro de boro conductivo (crisol BN)

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de nitruro de boro conductivo (crisol BN)

Crisol de nitruro de boro conductor suave y de alta pureza para recubrimiento por evaporación de haz de electrones, con rendimiento de alta temperatura y ciclo térmico.

Horno de prensado en caliente al vacío

Horno de prensado en caliente al vacío

¡Descubra las ventajas del Horno de Prensado en Caliente al Vacío! Fabrique metales y compuestos refractarios densos, cerámica y materiales compuestos a alta temperatura y presión.

Placa de cerámica de nitruro de boro (BN)

Placa de cerámica de nitruro de boro (BN)

Las placas de cerámica de nitruro de boro (BN) no utilizan agua de aluminio para humedecer y pueden proporcionar una protección integral para la superficie de los materiales que entran en contacto directo con el aluminio fundido, el magnesio, las aleaciones de zinc y su escoria.

Piezas de cerámica de nitruro de boro (BN)

Piezas de cerámica de nitruro de boro (BN)

El nitruro de boro ((BN) es un compuesto con alto punto de fusión, alta dureza, alta conductividad térmica y alta resistividad eléctrica. Su estructura cristalina es similar al grafeno y más dura que el diamante.


Deja tu mensaje