Conocimiento ¿Qué es un aparato de depósito físico en fase vapor? Explicación de 5 puntos clave
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Actualizado hace 1 mes

¿Qué es un aparato de depósito físico en fase vapor? Explicación de 5 puntos clave

Un aparato de deposición física de vapor (PVD) es un sistema diseñado para depositar películas finas de material sobre un sustrato.

Este proceso consiste en convertir un material sólido en vapor, transportar este vapor a través de una región de baja presión y, a continuación, condensarlo sobre el sustrato.

El PVD es crucial en varias industrias, como la fabricación de semiconductores, células solares y pantallas LED.

Explicación de 5 puntos clave

¿Qué es un aparato de depósito físico en fase vapor? Explicación de 5 puntos clave

1. Conversión en vapor

El material que se va a depositar se convierte primero en vapor por medios físicos.

Normalmente, esto se hace mediante técnicas como el sputtering o la evaporación térmica.

En el sputtering, los átomos son expulsados de un material objetivo debido al bombardeo de partículas energéticas.

En la evaporación térmica, el material se calienta hasta que se vaporiza.

2. Transporte

El material vaporizado se transporta a través de una región de baja presión.

Esto suele ocurrir dentro de una cámara de vacío, desde su origen hasta el sustrato.

Este paso garantiza una interferencia y contaminación mínimas durante el transporte del vapor.

3. Condensación

Finalmente, el vapor se condensa en el sustrato, formando una fina película.

El grosor y la calidad de la película dependen de factores como la duración del proceso de deposición, la masa del material y los niveles de energía de las partículas de revestimiento.

4. Pulverización catódica

En este método, un material objetivo es bombardeado con partículas energéticas (normalmente iones) en un entorno de baja presión.

Este bombardeo hace que los átomos del material objetivo sean expulsados y depositados sobre un sustrato cercano.

El proceso es altamente controlable, lo que permite la deposición precisa de diversos materiales.

5. Evaporación térmica

Esta técnica consiste en calentar un material sólido en un entorno de alto vacío hasta que se vaporiza.

A continuación, el vapor atraviesa el vacío y se condensa en el sustrato.

Este método es especialmente útil para depositar materiales puros y se utiliza habitualmente en aplicaciones que requieren películas muy finas.

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