Conocimiento ¿Qué es el proceso de deposición química en fase vapor?
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Actualizado hace 1 semana

¿Qué es el proceso de deposición química en fase vapor?

La deposición química en fase vapor (CVD) es un proceso utilizado para depositar películas finas y revestimientos sobre un sustrato provocando una reacción química o descomposición de reactivos gaseosos. Este método implica tres pasos principales: evaporación de un compuesto volátil, descomposición térmica o reacción química del vapor y deposición de los productos de reacción no volátiles sobre el sustrato. El proceso suele requerir altas temperaturas y rangos de presión específicos para facilitar las reacciones de forma eficaz.

Explicación detallada:

  1. Evaporación de un compuesto volátil:

  2. En el primer paso, se evapora un compuesto volátil relacionado con el material que se va a depositar. Este compuesto sirve como precursor, que suele ser un haluro o un hidruro. El precursor está diseñado para transportar y preparar el material de deposición para su interacción con el sustrato.Descomposición térmica o reacción química:

  3. El precursor vaporizado entra en una cámara de reacción, a menudo en condiciones de vacío, donde sufre una descomposición térmica o reacciona con otros gases, líquidos o vapores presentes en la cámara. Este paso es crucial, ya que descompone el precursor en átomos y moléculas listos para unirse al sustrato. Las condiciones de reacción, incluidas la temperatura y la presión, se controlan cuidadosamente para garantizar que se produzcan las transformaciones químicas deseadas.

Deposición de productos de reacción no volátiles:

Las especies descompuestas o reaccionadas se depositan sobre el sustrato, formando una fina película o recubrimiento. Esta deposición se produce porque los productos de reacción no son volátiles y se adhieren a la superficie del sustrato. La calidad y el grosor de la película dependen de los parámetros del proceso, como la temperatura, la presión y la naturaleza de los reactivos.Aplicaciones y materiales:

El CVD se utiliza ampliamente para depositar diversos materiales, como siliciuros, óxidos metálicos, sulfuros y arseniuros. La versatilidad del proceso permite adaptarlo a diferentes aplicaciones, desde la fabricación de semiconductores hasta la creación de revestimientos protectores sobre diversos materiales.

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