El tamaño de grano de los materiales de revestimiento por pulverización catódica varía en función del metal específico utilizado. En el caso del oro y la plata, el tamaño de grano esperado suele oscilar entre 5 y 10 nm. El oro, a pesar de ser un metal común para sputtering debido a sus eficaces características de conducción eléctrica, tiene el mayor tamaño de grano entre los metales comúnmente utilizados para sputtering. Este mayor tamaño de grano lo hace menos adecuado para aplicaciones de recubrimiento de alta resolución. Por el contrario, metales como el oro-paladio y el platino se prefieren por su menor tamaño de grano, que resulta ventajoso para conseguir revestimientos de mayor resolución. Metales como el cromo y el iridio ofrecen tamaños de grano aún más pequeños, que son adecuados para aplicaciones que requieren revestimientos muy finos, pero exigen el uso de un sistema de sputtering de alto vacío (bombeado turbomolecular).
La elección del metal para el revestimiento por pulverización catódica en aplicaciones de SEM es crucial, ya que afecta a la resolución y la calidad de las imágenes obtenidas. El proceso de recubrimiento consiste en depositar una capa ultrafina de metal sobre una muestra no conductora o poco conductora para evitar que se cargue y aumentar la emisión de electrones secundarios, mejorando así la relación señal/ruido y la claridad de las imágenes SEM. El tamaño de grano del material de revestimiento influye directamente en estas propiedades, ya que los granos más pequeños suelen dar mejores resultados en la obtención de imágenes de alta resolución.
En resumen, el tamaño de grano de los recubrimientos por sputtering para aplicaciones SEM oscila entre 5 y 10 nm para el oro y la plata, con opciones para tamaños de grano más pequeños disponibles mediante el uso de metales como el oro-paladio, el platino, el cromo y el iridio, en función de los requisitos específicos de la resolución de imagen y las capacidades del sistema de sputtering.
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