En química, la deposición consiste en crear capas finas o gruesas de una sustancia, átomo a átomo o molécula a molécula, sobre una superficie sólida.
Este proceso da lugar a un recubrimiento de la superficie, que puede alterar las propiedades del sustrato en función de la aplicación prevista.
La deposición es crucial en varias industrias, especialmente en la de semiconductores, donde se utiliza para producir materiales de alta calidad y alto rendimiento.
¿Qué significa deposición en química? Explicación de 4 técnicas clave
1. Deposición química en fase vapor (CVD)
El depósito químico en fase vapor (CVD) es un método utilizado para producir materiales sólidos, normalmente en condiciones de vacío.
Se utiliza ampliamente en la fabricación de semiconductores y la producción de películas delgadas.
El proceso implica la evaporación de un compuesto volátil, seguida de su descomposición térmica o reacción química con otras sustancias en el sustrato.
A continuación, los productos no volátiles de la reacción se depositan sobre el sustrato, formando una película fina.
Este proceso requiere condiciones específicas como presiones que van desde unos pocos torr hasta por encima de la presión atmosférica y temperaturas relativamente altas (alrededor de 1000°C).
2. Deposición al vacío
La deposición en vacío es una familia de procesos utilizados para depositar capas de material sobre sustratos en condiciones de vacío.
Esta técnica permite controlar con precisión el grosor de la película, incluso en el rango nanométrico, en un entorno limpio.
Suele emplearse para aplicar revestimientos resistentes a la corrosión sobre sustratos y se utiliza ampliamente para la preparación de películas de materiales inorgánicos a escala industrial.
3. Deposición física en fase vapor (PVD)
La deposición física de vapor (PVD) implica técnicas de alta energía para vaporizar materiales sólidos en el vacío y depositarlos sobre un material objetivo.
Dos métodos comunes de PVD son la pulverización catódica y la evaporación.
La pulverización catódica por magnetrón, un método basado en plasma, implica la interacción de iones de plasma con el material, haciendo que los átomos se pulvericen y formen una fina película sobre el sustrato.
Este método se utiliza comúnmente en entornos de producción eléctrica u óptica.
4. Resumen de las técnicas de deposición
En resumen, la deposición en química es un proceso versátil y crítico utilizado para modificar superficies mediante la aplicación de capas finas o gruesas de materiales.
Es esencial en industrias que requieren propiedades precisas de los materiales, como los semiconductores, y utiliza diversas técnicas como CVD y PVD para lograr los resultados deseados.
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