El sputtering es una técnica de deposición física en fase vapor (PVD).
Consiste en la expulsión de átomos o moléculas de un material objetivo.
Esta expulsión se produce mediante el bombardeo de partículas de alta energía.
A continuación, estas partículas se condensan en un sustrato en forma de película fina.
Este proceso se utiliza ampliamente para depositar películas metálicas, incluido el aluminio, sobre diversos sustratos.
Explicación de los 4 pasos
1. 1. Preparación e inicialización
La cámara de deposición contiene una pistola de pulverización catódica con el material objetivo, como el aluminio.
Unos potentes imanes situados detrás del blanco crean un campo magnético.
Este campo magnético es crucial para el proceso de sputtering.
2. Introducción del gas
Se introduce gas argón en la cámara.
Se prefiere este gas inerte para evitar reacciones químicas con el material objetivo.
3. Aplicación de energía
Se aplica corriente continua de alto voltaje al cátodo.
El cátodo aloja la pistola de pulverización catódica y el material del cátodo.
Esta potencia inicial limpia el cátodo y el sustrato.
4. Pulverización catódica
Los iones positivos procedentes del argón ionizado bombardean el blanco.
Estos iones expulsan partículas que se desplazan por la cámara.
Las partículas expulsadas se depositan sobre el sustrato en forma de una fina película.
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