Conocimiento ¿Cuál es el método de exfoliación química para la síntesis de grafeno? Explicación de los 3 pasos clave
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 3 meses

¿Cuál es el método de exfoliación química para la síntesis de grafeno? Explicación de los 3 pasos clave

El método de exfoliación química para la síntesis de grafeno esexfoliación en fase líquida.

Este método implica el uso de energía para exfoliar el grafito a granel dentro de un disolvente con la tensión superficial adecuada para estabilizar el grafeno resultante.

El disolvente suele ser no acuoso, como la n-metil-2-pirrolidona (NMP), o puede ser acuoso con la adición de un tensioactivo.

La energía para la exfoliación la proporciona inicialmente la sonicación por ultrasonidos, pero cada vez se utilizan más las fuerzas de cizallamiento elevadas.

El rendimiento de este proceso suele ser bajo, en torno a un pequeño porcentaje, por lo que es necesario recurrir a la centrifugación para obtener una fracción significativa de copos de grafeno monocapa y de pocas capas en la suspensión final.

Explicación de los 3 pasos clave

¿Cuál es el método de exfoliación química para la síntesis de grafeno? Explicación de los 3 pasos clave

1. Selección del disolvente

La elección del disolvente es crucial, ya que debe tener la tensión superficial adecuada para estabilizar los copos de grafeno.

Normalmente se utilizan disolventes no acuosos como el NMP, pero las soluciones acuosas también pueden ser eficaces si se añade un tensioactivo para evitar la agregación.

2. Entrada de energía

Inicialmente, la sonicación por ultrasonidos era el principal método utilizado para proporcionar la energía necesaria para la exfoliación.

Este método consiste en exponer la mezcla de grafito y disolvente a ondas sonoras de alta frecuencia, que crean burbujas de cavitación que se colapsan y generan alta energía localizada, exfoliando así el grafito hasta convertirlo en grafeno.

Sin embargo, las fuerzas de cizallamiento elevadas, como las generadas en la mezcla a alta velocidad o en dispositivos microfluídicos, son cada vez más populares debido a su potencial para una exfoliación más controlada y eficiente.

3. Aumento del rendimiento

Debido al bajo rendimiento del proceso de exfoliación, se emplea la centrifugación para separar los copos de grafeno monocapa y de pocas capas deseados del material a granel y de los copos multicapa de mayor tamaño.

Este paso es fundamental para obtener una suspensión con una alta concentración de los copos de grafeno deseados.

Siga explorando, consulte a nuestros expertos

Descubra las capacidades de vanguardia de KINTEK SOLUTION, su socio en ciencia de materiales avanzados.

Con nuestro equipo especializado y nuestra experiencia, estamos revolucionando la exfoliación en fase líquida de la síntesis de grafeno, garantizando una estabilidad y eficiencia excepcionales.

Eleve su investigación con nuestros disolventes de precisión, sistemas de aporte de energía y técnicas de centrifugación diseñadas para maximizar los rendimientos y optimizar la calidad de las escamas de grafeno.

Experimente la diferencia de KINTEK SOLUTION y libere el verdadero potencial de sus proyectos de grafeno.

Explore nuestra gama de productos hoy mismo y únase a la vanguardia de la innovación científica.

Productos relacionados

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD: conductividad térmica, calidad del cristal y adherencia superiores para herramientas de corte, fricción y aplicaciones acústicas

Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Una tecnología utilizada principalmente en el campo de la electrónica de potencia. Es una película de grafito hecha de material fuente de carbono por deposición de material utilizando tecnología de haz de electrones.

Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio

Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio

Conozca la máquina MPCVD de resonador cilíndrico, el método de deposición química en fase vapor por plasma de microondas utilizado para el crecimiento de gemas y películas de diamante en las industrias de joyería y semiconductores. Descubra sus ventajas económicas frente a los métodos HPHT tradicionales.

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.

Horno de grafitización de material negativo

Horno de grafitización de material negativo

El horno de grafitización para la producción de baterías tiene una temperatura uniforme y un bajo consumo de energía. Horno de grafitización para materiales de electrodos negativos: una solución de grafitización eficiente para la producción de baterías y funciones avanzadas para mejorar el rendimiento de la batería.

Placa de grafito de carbono - isostático

Placa de grafito de carbono - isostático

El grafito de carbono isostático se prensa a partir de grafito de alta pureza. Es un material excelente para la fabricación de toberas de cohetes, materiales de desaceleración y materiales reflectantes para reactores de grafito.

Horno de grafitización de temperatura ultraalta

Horno de grafitización de temperatura ultraalta

El horno de grafitización de temperatura ultraalta utiliza calentamiento por inducción de frecuencia media en un ambiente de vacío o gas inerte. La bobina de inducción genera un campo magnético alterno, induciendo corrientes parásitas en el crisol de grafito, que se calienta e irradia calor a la pieza de trabajo, llevándola a la temperatura deseada. Este horno se utiliza principalmente para la grafitización y sinterización de materiales de carbono, materiales de fibra de carbono y otros materiales compuestos.

Horno de grafitización continua

Horno de grafitización continua

El horno de grafitización de alta temperatura es un equipo profesional para el tratamiento de grafitización de materiales de carbono. Es un equipo clave para la producción de productos de grafito de alta calidad. Tiene alta temperatura, alta eficiencia y calentamiento uniforme. Es adecuado para diversos tratamientos de alta temperatura y tratamientos de grafitización. Es ampliamente utilizado en la industria metalúrgica, electrónica, aeroespacial, etc.

Horno de grafitización de película de alta conductividad térmica

Horno de grafitización de película de alta conductividad térmica

El horno de grafitización de película de alta conductividad térmica tiene una temperatura uniforme, un bajo consumo de energía y puede funcionar de forma continua.

Horno de grafitización experimental IGBT

Horno de grafitización experimental IGBT

Horno de grafitización experimental IGBT, una solución personalizada para universidades e instituciones de investigación, con alta eficiencia de calentamiento, facilidad de uso y control preciso de la temperatura.

Horno horizontal de grafitización de alta temperatura

Horno horizontal de grafitización de alta temperatura

Horno de grafitización horizontal: este tipo de horno está diseñado con los elementos calefactores colocados horizontalmente, lo que permite un calentamiento uniforme de la muestra. Es muy adecuado para grafitizar muestras grandes o voluminosas que requieren uniformidad y control preciso de la temperatura.

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

La matriz de embutición de revestimiento compuesto de nanodiamante utiliza carburo cementado (WC-Co) como sustrato, y emplea el método de fase de vapor químico (método CVD para abreviar) para recubrir el diamante convencional y el revestimiento compuesto de nanodiamante en la superficie del orificio interior del molde.

Crisol de evaporación de grafito

Crisol de evaporación de grafito

Recipientes para aplicaciones de alta temperatura, donde los materiales se mantienen a temperaturas extremadamente altas para que se evaporen, lo que permite depositar películas delgadas sobre los sustratos.

Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

Obtenga películas de diamante de alta calidad con nuestra máquina Bell-jar Resonator MPCVD diseñada para laboratorio y crecimiento de diamantes. Descubra cómo funciona la deposición de vapor químico de plasma de microondas para el cultivo de diamantes utilizando gas de carbono y plasma.

Material de pulido de electrodos

Material de pulido de electrodos

¿Está buscando una manera de pulir sus electrodos para experimentos electroquímicos? ¡Nuestros materiales de pulido están aquí para ayudar! Siga nuestras sencillas instrucciones para obtener los mejores resultados.

Gran horno de grafitización vertical

Gran horno de grafitización vertical

Un gran horno vertical de grafitización de alta temperatura es un tipo de horno industrial que se utiliza para la grafitización de materiales de carbono, como la fibra de carbono y el negro de humo. Es un horno de alta temperatura que puede alcanzar temperaturas de hasta 3100°C.


Deja tu mensaje