Conocimiento ¿Cuáles son los diferentes tipos de deposición física en fase vapor PVD?
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Actualizado hace 1 semana

¿Cuáles son los diferentes tipos de deposición física en fase vapor PVD?

La deposición física de vapor (PVD) implica varios tipos de procesos que transforman los materiales de una fase condensada a una fase de vapor y luego de nuevo a una fina película condensada sobre un sustrato. Los principales tipos de procesos PVD son la pulverización catódica y la evaporación, cada uno con sus propias subtécnicas y aplicaciones.

Pulverización catódica es un proceso en el que los átomos de un material objetivo sólido son expulsados por medios energéticos a una fase gaseosa y, a continuación, se depositan sobre un sustrato. Esta técnica incluye varios subtipos:

  • Pulverización catódica por magnetrón: Utiliza un campo magnético para atrapar electrones cerca de la superficie del blanco, aumentando la ionización del gas de pulverización catódica y mejorando la velocidad de pulverización catódica.
  • Pulverización catódica por haz de iones: Consiste en dirigir un haz de iones focalizado sobre el blanco para expulsar el material.
  • Pulverización catódica reactiva: Combina la pulverización catódica con un gas reactivo para formar películas compuestas, como óxidos o nitruros.
  • Pulverización catódica asistida por iones: Añade un haz de iones al proceso para mejorar las propiedades de la película.
  • Pulverización catódica con flujo de gas: Controla el flujo de gas para optimizar el proceso de deposición.

Evaporación Consiste en calentar un material de partida para que se evapore y se condense sobre un sustrato más frío, formando una película fina. Este proceso puede clasificarse en

  • Evaporación térmica: Calienta directamente el material mediante calentamiento resistivo o inductivo.
  • Evaporación por haz de electrones (E-beam): Utiliza un haz de electrones para calentar el material, lo que permite evaporar materiales de mayor fusión.

Estas técnicas de PVD se utilizan para depositar diversos materiales, como metales, aleaciones y cerámicas, con aplicaciones que van desde funciones mecánicas y ópticas hasta químicas y electrónicas. La elección de la técnica depende de los requisitos específicos de la película fina, como la adherencia, la densidad y la pureza.

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