Las desventajas del bombardeo por haz de iones (IBS) giran principalmente en torno a sus limitaciones a la hora de conseguir una deposición uniforme de gran superficie, la elevada complejidad de los equipos y los costes de funcionamiento, y los retos que plantea la integración del proceso para conseguir una estructuración precisa de la película.
1. 1. Área objetivo limitada y baja tasa de deposición:
El bombardeo por haz de iones se caracteriza por una superficie objetivo relativamente pequeña. Esta limitación afecta directamente a la velocidad de deposición, que suele ser inferior a la de otras técnicas de deposición. La pequeña área objetivo significa que, para superficies más grandes, conseguir un espesor uniforme de la película es todo un reto. Incluso con avances como el sputtering de doble haz de iones, persiste el problema de la insuficiente área objetivo, lo que provoca falta de uniformidad y baja productividad.2. 2. Complejidad y elevados costes operativos:
El equipo utilizado en el sputtering con haz de iones es notablemente complejo. Esta complejidad no sólo aumenta la inversión inicial necesaria para configurar el sistema, sino que también conlleva unos costes de funcionamiento más elevados. Los intrincados requisitos de configuración y mantenimiento pueden hacer que el IBS sea una opción menos viable económicamente para muchas aplicaciones, especialmente si se compara con métodos de deposición más sencillos y rentables.
3. 3. Dificultad de integración del proceso para una estructuración precisa de la película:
IBS se enfrenta a retos cuando se trata de integrar procesos como el despegue para estructurar la película. La naturaleza difusa del proceso de sputtering dificulta la obtención de una sombra completa, esencial para restringir la deposición de átomos a zonas específicas. Esta incapacidad para controlar totalmente dónde se depositan los átomos puede provocar problemas de contaminación y dificultades para conseguir películas con patrones precisos. Además, el control activo para el crecimiento capa a capa es más difícil en el IBS que en técnicas como la deposición por láser pulsado, en la que el papel de los iones pulverizados y resputados es más fácil de controlar.
4. 4. Inclusión de impurezas:
