Cuando se trata de evaporación, el calentamiento del material fuente es un paso crucial.
Existen dos métodos principales para conseguirlo: el calentamiento resistivo y el calentamiento por haz de electrones.
¿Cuáles son las dos formas más comunes de calentar el material de partida en la evaporación?
1. Calentamiento resistivo
El calentamiento resistivo consiste en utilizar un elemento calefactor o filamento para calentar el material de partida.
El filamento suele estar hecho de materiales como tungsteno, molibdeno, cuarzo o grafito.
Se hace pasar una gran corriente a través de un alambre o lámina resistiva que contiene el material metálico.
A medida que el filamento se calienta, alcanza su punto de fusión.
Este calor se transfiere al material fuente, haciendo que se evapore o sublime en forma de vapor.
2. Calentamiento por haz de electrones
En el calentamiento por haz de electrones, se utiliza un haz de electrones para calentar el material fuente.
El haz de electrones se genera mediante un cañón de electrones.
Este haz se dirige al material fuente, provocando su calentamiento y evaporación o sublimación.
La evaporación por haz de electrones ofrece un control preciso del proceso de calentamiento.
También permite altas velocidades de deposición.
Tanto el calentamiento resistivo como el calentamiento por haz de electrones se utilizan habitualmente en los procesos de evaporación.
Estos métodos calientan el material de partida a altas temperaturas, haciendo que se vaporice y condense sobre el sustrato.
Cada método tiene sus propias ventajas y se elige en función de factores como el material de revestimiento, la velocidad de deposición, la calidad del revestimiento y el control del espesor de la película.
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