Dos formas comunes de calentar el material fuente en evaporación son el calentamiento resistivo y el calentamiento por haz de electrones.
1. 1. Calentamiento resistivo: Este método consiste en utilizar un elemento calefactor o filamento para calentar el material de partida. El filamento, hecho de materiales como el tungsteno, el molibdeno, el cuarzo o el grafito, se calienta hasta su punto de fusión haciendo pasar una gran corriente a través de un alambre o lámina resistiva que contiene el material metálico. A medida que el filamento se calienta, el material fuente también se calienta y finalmente se evapora o sublima en forma de vapor.
2. Calentamiento por haz de electrones: En este método, se utiliza un haz de electrones para calentar el material fuente. El haz de electrones, generado por un cañón de electrones, se dirige al material fuente, provocando su calentamiento y evaporación o sublimación. La evaporación por haz de electrones proporciona un control preciso del proceso de calentamiento y permite altas velocidades de deposición.
Estos dos mecanismos de calentamiento se utilizan habitualmente en los procesos de evaporación para calentar el material de partida a altas temperaturas, haciendo que se vaporice y condense sobre el sustrato. Cada método tiene sus ventajas y se selecciona en función de factores como el material de revestimiento, la velocidad de deposición, la calidad del revestimiento y el control del espesor de la película.
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