Los sistemas de evaporación térmica se utilizan ampliamente en diversas industrias, pero presentan un importante inconveniente.
3 Puntos clave sobre la principal desventaja de los sistemas de evaporación térmica
1. 1. Altos niveles de impurezas
Los sistemas de evaporación térmica a menudo producen altos niveles de impurezas.
Esto se debe principalmente a que el proceso implica calentar el material de partida a temperaturas muy elevadas en una cámara de vacío.
Durante este calentamiento, cualquier impureza o contaminante presente en el material de partida también puede evaporarse y pasar a formar parte de la película depositada.
Esto puede dar lugar a películas de baja calidad, lo que resulta problemático para aplicaciones que requieren una gran pureza.
2. Películas de baja densidad
Las películas producidas por evaporación térmica suelen tener baja densidad.
Esto significa que pueden no adherirse bien al sustrato y ser porosas.
La porosidad puede afectar a las propiedades mecánicas y eléctricas de la película.
La baja densidad también contribuye a que los niveles de impurezas sean elevados, ya que los poros pueden atrapar impurezas o permitir que éstas migren a través de la película.
3. Mitigación con ayuda de iones
Aunque la evaporación térmica produce intrínsecamente películas con estas desventajas, el uso de fuentes asistidas por iones puede ayudar a mejorar la situación.
La asistencia iónica consiste en bombardear la película depositada con iones, lo que puede aumentar la densidad y reducir la porosidad de la película.
Este proceso también puede ayudar a eliminar o reducir las impurezas, mejorando así la calidad general de la película.
Sin embargo, la adición de fuentes asistidas por iones aumenta la complejidad y el coste del sistema, lo que puede no ser factible para todas las aplicaciones.
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