La deposición física de vapor (PVD) es una técnica utilizada para aplicar películas finas a diversos materiales.
El grosor de estos recubrimientos puede variar significativamente, desde capas atómicas hasta varias micras.
¿Cuál es el espesor del depósito físico en fase vapor? (4 factores clave a tener en cuenta)
1. Gama de espesores
Los revestimientos PVD pueden ser tan finos como unos pocos nanómetros o tan gruesos como varias micras.
Un rango común para los recubrimientos PVD es entre 1 y 10 micrómetros (µm).
2. Influencia de la duración del proceso de sputtering
El espesor de los revestimientos PVD depende directamente de la duración del proceso de sputtering.
Cuanto más dure el proceso de sputtering, más gruesa será la película.
3. Impacto de la energía de las partículas de revestimiento
El nivel de energía de las partículas del revestimiento también desempeña un papel crucial en la determinación del espesor.
Esta energía puede variar desde decenas de electronvoltios hasta miles, lo que afecta a la velocidad de deposición.
4. Método de evaporación térmica
En la evaporación térmica, un método común de PVD, los recubrimientos suelen oscilar entre angstroms y micras.
Este método consiste en calentar un material sólido hasta que forma una nube de vapor, que luego se condensa sobre el sustrato.
El grosor depende de la duración del proceso de evaporación y de la presión de vapor del material.
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