Conocimiento ¿Cuál es el espesor de la deposición física de vapor?
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Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 2 semanas

¿Cuál es el espesor de la deposición física de vapor?

El grosor de los revestimientos por deposición física de vapor (PVD) suele variar desde capas atómicas, que son inferiores a 10 angstroms (Å) o 0,1 nanómetros (nm), hasta varias micras. En general, los revestimientos PVD pueden ser tan finos como unos pocos nanómetros hasta tan gruesos como varios micrómetros, siendo un rango común de 1 a 10µm.

El grosor de los revestimientos PVD depende de varios factores, como la duración del proceso de pulverización catódica, la masa de los materiales implicados y el nivel de energía de las partículas del revestimiento. Por ejemplo, en una máquina de sputtering, el grosor de la película aumenta en proporción directa a la duración del proceso de sputtering. Además, el nivel de energía de las partículas de revestimiento, que puede oscilar entre decenas de electronvoltios y miles, también afecta a la velocidad de deposición y, por tanto, al grosor final de la película.

En el caso de la evaporación térmica, un método habitual de PVD, los revestimientos suelen tener un grosor comprendido entre angstroms y micras. Este método consiste en calentar un material sólido dentro de una cámara de alto vacío hasta que forma una nube de vapor, que luego se condensa sobre el sustrato para formar una película fina. El espesor específico alcanzado depende de la duración del proceso de evaporación y de la presión de vapor del material que se evapora.

En general, el espesor de los revestimientos PVD puede controlarse con precisión ajustando los parámetros del proceso, lo que convierte al PVD en una técnica versátil y eficaz para depositar películas finas con una amplia gama de espesores.

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