Conocimiento ¿Qué es el sputtering por magnetrón RF?
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Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 3 meses

¿Qué es el sputtering por magnetrón RF?

El sputtering por magnetrón RF es una técnica utilizada para fabricar películas delgadas, especialmente cuando se utilizan materiales no conductores. En este proceso, se coloca un material de sustrato en una cámara de vacío y se elimina el aire. El material objetivo, que formará la película fina, se libera en la cámara en forma de gas. Se utilizan potentes imanes para ionizar el material objetivo, creando plasma. El material cargado negativamente se alinea en el sustrato para formar una fina película.

El sputtering por magnetrón RF utiliza una fuente de alimentación de corriente alterna (CA) de alto voltaje para enviar ondas de radio a través de la cámara de vacío, creando gas de sputtering cargado positivamente. El campo magnético generado por los imanes atrapa los electrones y la descarga de plasma de gas sobre el material objetivo cargado negativamente. De este modo se evita que los electrones y la descarga de radiofrecuencia bombardeen el sustrato, lo que da lugar a velocidades de deposición por pulverización catódica más rápidas.

En comparación con el sputtering tradicional de corriente continua, el sputtering por magnetrón de radiofrecuencia tiene la ventaja de reducir la acumulación de carga en la superficie del blanco, que puede acabar provocando el cese de la deposición de la película fina. El campo magnético del sputtering por magnetrón RF mejora la eficacia de la formación de iones de gas y limita la descarga del plasma, lo que permite una mayor corriente a menor presión de gas y alcanzar una tasa de deposición aún mayor.

El sputtering por magnetrón RF no requiere que la superficie del blanco sea eléctricamente conductora como el sputtering por magnetrón DC, lo que amplía la gama de materiales que pueden utilizarse en el proceso de sputtering. Sin embargo, el sputtering por RF requiere suministros costosos y equipos especializados.

En general, el sputtering por magnetrón de RF es una técnica eficaz para depositar películas finas de recubrimientos metálicos que mejoran los sustratos con propiedades específicas como la resistencia al rayado, la conductividad y la durabilidad.

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