El sputtering por magnetrón es una técnica de deposición de películas finas que utiliza un campo magnético para aumentar la eficacia de la generación de plasma cerca de la superficie del objetivo. De este modo se consiguen mayores velocidades de deposición y una mejor calidad de la película.
Explicación de 4 puntos clave
1. Potenciación de la generación de plasma
En el sputtering por magnetrón, se aplica un campo magnético perpendicular al campo eléctrico cerca de la superficie del blanco. Este campo magnético hace que los electrones sigan una trayectoria circular, aumentando su tiempo en el plasma. Como resultado, la probabilidad de que los electrones colisionen con átomos de argón (u otros gases inertes) es mucho mayor. Estas colisiones ionizan las moléculas de gas, creando un plasma denso cerca del blanco.
2. Bombardeo del material objetivo
A continuación, las moléculas de gas ionizadas (iones) son empujadas por el campo eléctrico hacia el material objetivo. Cuando estos iones chocan con el objetivo, transfieren su energía, provocando la expulsión de átomos o moléculas del objetivo. Este proceso se denomina pulverización catódica. El material expulsado forma entonces una fina película sobre un sustrato.
3. Ventajas sobre otras técnicas
Comparado con otras técnicas de sputtering como el sputtering por diodos o DC, el sputtering por magnetrón tiene varias ventajas. El plasma cercano al blanco está confinado por el campo magnético, lo que evita que se dañe la película fina que se está formando sobre el sustrato. Además, esta técnica funciona a temperaturas más bajas, lo que es bueno para depositar películas sobre sustratos sensibles a la temperatura.
4. Aplicación y mejora
Aunque el sputtering por magnetrón tiene muchas ventajas, la relación de ionización de las moléculas puede disminuir a bajas temperaturas, lo que limita su uso. Para solucionar este problema, se utiliza el sputtering por magnetrón mejorado con plasma. Se trata de utilizar más plasma para mejorar el rendimiento del revestimiento. Esta tecnología se utiliza ampliamente en la industria para la deposición de películas finas de alta calidad.
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