El depósito físico en fase vapor (PVD) es un método utilizado para crear películas finas.
Consiste en convertir un material sólido en vapor.
A continuación, este vapor se transporta a través de una zona de baja presión.
Finalmente, el vapor se condensa sobre un sustrato para formar una película fina.
Este proceso suele realizarse en condiciones de vacío.
5 puntos clave que hay que saber sobre el depósito físico en fase vapor (PVD)
1. Pasos del proceso
El proceso consta de varios pasos.
En primer lugar, se gasifica el material de partida.
A continuación, se transporta el vapor.
Por último, se condensa en el sustrato.
2. Condiciones de vacío
El PVD se realiza normalmente en condiciones de vacío.
Esto ayuda a mantener la pureza y la calidad de la película fina.
3. Amplio uso industrial
El PVD se utiliza en diversas industrias.
Produce revestimientos duros y resistentes a la corrosión.
Estos recubrimientos tienen una alta tolerancia a la temperatura y una fuerte adhesión.
4. Métodos comunes de PVD
Los métodos PVD más comunes son la pulverización catódica y la evaporación.
Estos métodos difieren del depósito químico en fase vapor (CVD).
El PVD implica procesos físicos en lugar de químicos.
5. Respetuoso con el medio ambiente
El PVD se considera respetuoso con el medio ambiente.
No utiliza productos químicos peligrosos.
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