El argón se utiliza ampliamente en los procesos de sputtering por varias razones.
4 Razones clave por las que el argón es el gas preferido para los procesos de sputtering
1. Alta velocidad de sputtering
El argón es un gas noble con un elevado peso atómico.
Esto lo convierte en una gran fuente de iones para bombardear el material objetivo.
Los iones de argón cargados positivamente son atraídos a gran velocidad por el blanco cargado negativamente.
Esto da lugar a una alta tasa de pulverización catódica, lo que conduce a tasas de deposición más rápidas.
2. Naturaleza inerte
El argón es químicamente inerte.
Esto significa que no reacciona con la mayoría de los materiales.
La inercia del argón garantiza que las partículas pulverizadas no se contaminen ni se alteren.
Esto preserva las propiedades deseadas de la película fina.
3. Bajo precio y disponibilidad
El argón es relativamente barato en comparación con otros gases nobles como el criptón y el xenón.
Está ampliamente disponible y puede obtenerse en alta pureza.
Esto lo convierte en una opción práctica para aplicaciones industriales en las que la rentabilidad es importante.
4. Otras consideraciones
El uso de argón en el sputtering permite el funcionamiento del proceso en varias orientaciones.
También permite recubrir formas complejas.
Dado que no es necesario fundir el material de partida, el proceso puede adaptarse a distintas configuraciones.
Esto aumenta su versatilidad.
Además, el argón puede dar lugar a capas más densas con menos dispersión de material.
Esto mejora la calidad general de las películas depositadas.
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