La deposición por haz de electrones es un proceso utilizado para crear películas finas mediante la evaporación de materiales en el vacío.
El proceso consiste en utilizar un haz de electrones focalizado para calentar el material en un crisol, provocando su evaporación y posterior condensación en un sustrato.
Explicación de los 5 pasos clave
1. Generación del haz de electrones
El haz de electrones se genera en un cañón de electrones, normalmente utilizando un filamento de tungsteno calentado por una corriente eléctrica.
Este calentamiento provoca la emisión termoiónica, liberando electrones que forman el haz.
2. Enfoque y desviación del haz de electrones
A continuación, el haz de electrones se enfoca y dirige mediante imanes a través de la cámara de vacío hasta el crisol que contiene el material a evaporar.
3. Evaporación del material
Cuando el haz de electrones incide sobre el material, su energía cinética se convierte en calor, provocando la fusión del material (en el caso de metales como el aluminio) o su sublimación (en el caso de la cerámica).
4. Deposición sobre el sustrato
El material evaporado sale del crisol y se deposita como una fina película sobre el sustrato colocado encima del crisol dentro de la cámara de vacío.
5. Control y mejora
El proceso puede controlarse con precisión mediante sistemas informáticos para gestionar el calentamiento, los niveles de vacío, la ubicación del sustrato y la rotación.
Además, puede utilizarse la asistencia de haces de iones para mejorar la adherencia y la densidad de la película depositada.
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