Un reactor de deposición química en fase vapor (CVD) es un sistema complejo diseñado para depositar películas finas sobre sustratos.
Se explican 8 partes esenciales
1. Sistema de suministro de gas
Este sistema suministra los precursores a la cámara del reactor.
2. Cámara del reactor
Aquí es donde se produce la deposición de la película fina.
3. Mecanismo de carga del sustrato
Este sistema introduce y extrae sustratos dentro y fuera de la cámara del reactor.
4. Fuente de energía
Proporciona el calor o la energía necesarios para las reacciones químicas.
5. Sistema de vacío
Mantiene un entorno controlado mediante la eliminación de gases no deseados.
6. Sistema de escape
Elimina los subproductos volátiles y el exceso de gases.
7. Sistemas de tratamiento de gases de escape
Tratan los componentes nocivos o tóxicos de los gases de escape.
8. Equipos de control de procesos
Incluye medidores, controles y sistemas de supervisión de parámetros como la presión, la temperatura y el tiempo.
Cada componente es crucial para el funcionamiento eficiente y eficaz de un reactor CVD.
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