Conocimiento ¿Qué es el proceso de deposición en química? Explicación de 5 técnicas clave
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Actualizado hace 4 semanas

¿Qué es el proceso de deposición en química? Explicación de 5 técnicas clave

La deposición en química es un proceso utilizado para crear capas finas o gruesas de una sustancia átomo a átomo o molécula a molécula sobre una superficie sólida.

Este proceso da lugar a un recubrimiento de la superficie, que puede alterar las propiedades del sustrato en función de la aplicación prevista.

Las técnicas de deposición son cruciales en diversos campos, como la electrónica, la óptica y la ciencia de los materiales.

¿Qué es el proceso de deposición en química? Explicación de 5 técnicas clave

¿Qué es el proceso de deposición en química? Explicación de 5 técnicas clave

1. Deposición química en fase vapor (CVD)

El CVD es un proceso de deposición ampliamente utilizado en el que un material de deposición interactúa con una sustancia precursora y se une a un sustrato.

El precursor, a menudo un haluro o un hidruro, facilita el transporte y la preparación del material de deposición al sustrato.

El proceso tiene lugar en una cámara de vacío, donde el material de deposición forma una capa uniforme sobre el sustrato, y el precursor se descompone y sale por difusión.

Etapas del proceso CVD

  1. Transporte de las especies gaseosas reactivas a la superficie: Los gases que contienen el material de deposición y el precursor se introducen en la cámara de vacío.
  2. Adsorción de las especies en la superficie: Las especies gaseosas se adhieren a la superficie del sustrato.
  3. Reacciones heterogéneas catalizadas por la superficie: Las reacciones químicas se producen en la superficie, facilitadas por las propiedades catalíticas del sustrato.
  4. Difusión superficial de las especies a los lugares de crecimiento: Las especies adsorbidas se desplazan por la superficie para formar una capa uniforme.
  5. Nucleación y crecimiento de la película: Las partículas recién formadas se agregan para formar una película continua.
  6. Desorción de los productos de reacción gaseosos y transporte de los productos de reacción fuera de la superficie: Los subproductos de la reacción se eliminan del sistema, manteniendo la pureza de la capa depositada.

2. Deposición física en fase vapor (PVD)

A diferencia del CVD, el PVD utiliza técnicas de alta energía para vaporizar materiales sólidos en el vacío y depositarlos sobre un material objetivo.

Dos métodos comunes dentro del PVD son la pulverización catódica y la evaporación.

Pulverización catódica con magnetrón

Este método utiliza iones de plasma para interactuar con el material, haciendo que los átomos sean expulsados (pulverizados) y formen una fina película sobre el sustrato.

Esta técnica es frecuente en la producción de componentes electrónicos y ópticos.

Evaporación

En este método, los materiales se calientan hasta su punto de vaporización en el vacío, y el vapor se condensa en el sustrato, formando una fina película.

3. Reacciones químicas y variaciones

Dependiendo de las reacciones químicas específicas que se produzcan, las técnicas de deposición pueden clasificarse en categorías.

Por ejemplo, la deposición de capas atómicas (ALD) es una variante de la CVD que permite un control preciso del grosor y la uniformidad de la capa depositada, lo que la hace ideal para aplicaciones que requieren una gran precisión.

4. Versatilidad y adaptación

Los procesos de deposición en química son esenciales para crear películas finas que modifiquen las propiedades de los sustratos.

Estos procesos son versátiles y pueden adaptarse a necesidades específicas ajustando parámetros como la temperatura, la presión y la elección del precursor y el material de deposición.

5. Aplicaciones en diversos campos

Las técnicas de deposición son cruciales en diversos campos, como la electrónica, la óptica y la ciencia de los materiales.

Desempeñan un papel importante en la mejora de la funcionalidad y el rendimiento de diversos dispositivos y materiales.

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