Conocimiento ¿Cuál es el proceso de evaporación en los semiconductores?
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 1 semana

¿Cuál es el proceso de evaporación en los semiconductores?

La evaporación en semiconductores es una técnica de deposición de películas finas en la que los materiales de partida se calientan a altas temperaturas, lo que provoca su evaporación o sublimación en forma de vapor. A continuación, este vapor se condensa en los sustratos, formando una fina capa del material. Este proceso se realiza normalmente en alto vacío para garantizar la pureza e integridad de la película depositada.

Explicación detallada:

  1. Calentamiento y evaporación:

  2. El proceso comienza calentando el material de partida hasta su punto de evaporación. Esto puede conseguirse mediante diferentes métodos, como la evaporación por haz de electrones o la evaporación térmica. En la evaporación por haz de electrones, se utiliza un haz de electrones altamente cargado para calentar y evaporar el material. En la evaporación térmica, se emplea el calentamiento resistivo para generar presión de vapor a partir del material.Entorno de vacío:

  3. La evaporación se produce en un entorno de alto vacío. Este vacío es crucial ya que minimiza las colisiones de gases y las reacciones no deseadas con el material evaporado. También ayuda a mantener un largo camino libre medio para las partículas de vapor, lo que les permite viajar directamente al sustrato sin interferencias significativas.

  4. Deposición sobre sustrato:

  5. Una vez evaporado, el material se desplaza en forma de vapor y se deposita sobre el sustrato. Normalmente, el sustrato se mantiene a una distancia y orientación específicas con respecto al material de origen para garantizar una deposición uniforme. A medida que el vapor alcanza el sustrato más frío, se condensa y vuelve a convertirse en sólido, formando una fina película.Control y ajuste:

El espesor y la calidad de la película depositada pueden controlarse ajustando varios parámetros, como la temperatura del evaporante, la velocidad de deposición y la distancia entre el evaporante y el sustrato. Este control es esencial para conseguir las propiedades deseadas en la película depositada, lo cual es crucial para aplicaciones en semiconductores.

Aplicaciones:

Productos relacionados

Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Una tecnología utilizada principalmente en el campo de la electrónica de potencia. Es una película de grafito hecha de material fuente de carbono por deposición de material utilizando tecnología de haz de electrones.

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.

Crisol de haz de pistola de electrones

Crisol de haz de pistola de electrones

En el contexto de la evaporación por haz de cañón de electrones, un crisol es un contenedor o soporte de fuente que se utiliza para contener y evaporar el material que se depositará sobre un sustrato.

Crisol de evaporación de grafito

Crisol de evaporación de grafito

Recipientes para aplicaciones de alta temperatura, donde los materiales se mantienen a temperaturas extremadamente altas para que se evaporen, lo que permite depositar películas delgadas sobre los sustratos.

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de tungsteno / Crisol de molibdeno

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de tungsteno / Crisol de molibdeno

Los crisoles de tungsteno y molibdeno se utilizan comúnmente en los procesos de evaporación por haz de electrones debido a sus excelentes propiedades térmicas y mecánicas.

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de cobre libre de oxígeno

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de cobre libre de oxígeno

Cuando se utilizan técnicas de evaporación por haz de electrones, el uso de crisoles de cobre sin oxígeno minimiza el riesgo de contaminación por oxígeno durante el proceso de evaporación.

Barco de evaporación de molibdeno/tungsteno/tantalio

Barco de evaporación de molibdeno/tungsteno/tantalio

Las fuentes de evaporación en barco se utilizan en sistemas de evaporación térmica y son adecuadas para depositar diversos metales, aleaciones y materiales. Las fuentes de evaporación en barco están disponibles en diferentes espesores de tungsteno, tantalio y molibdeno para garantizar la compatibilidad con una variedad de fuentes de energía. Como recipiente, se utiliza para la evaporación al vacío de materiales. Pueden usarse para la deposición de películas delgadas de diversos materiales o diseñarse para que sean compatibles con técnicas como la fabricación por haz de electrones.

barco de evaporación para materia orgánica

barco de evaporación para materia orgánica

El bote de evaporación para materia orgánica es una herramienta importante para un calentamiento preciso y uniforme durante la deposición de materiales orgánicos.

Crisol de evaporación para materia orgánica

Crisol de evaporación para materia orgánica

Un crisol de evaporación para materia orgánica, denominado crisol de evaporación, es un recipiente para evaporar disolventes orgánicos en un entorno de laboratorio.

Barco de evaporación de cerámica aluminizada

Barco de evaporación de cerámica aluminizada

Recipiente para depositar películas delgadas; tiene un cuerpo cerámico revestido de aluminio para mejorar la eficiencia térmica y la resistencia química. haciéndolo adecuado para diversas aplicaciones.

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de nitruro de boro conductivo (crisol BN)

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de nitruro de boro conductivo (crisol BN)

Crisol de nitruro de boro conductor suave y de alta pureza para recubrimiento por evaporación de haz de electrones, con rendimiento de alta temperatura y ciclo térmico.


Deja tu mensaje