El proceso de recubrimiento por haz de electrones implica el uso de un haz de electrones para calentar y evaporar materiales en el vacío, que luego se condensan para formar películas finas sobre un sustrato. Este método es muy preciso y permite la deposición direccional y de capas finas.
Resumen de la respuesta:
El recubrimiento por haz de electrones es una técnica de deposición de películas finas en la que se utiliza un haz de electrones para calentar y evaporar materiales en una cámara de vacío. A continuación, los materiales evaporados se condensan en un sustrato para formar películas finas. Este proceso es conocido por su precisión en la deposición de capas finas y sus capacidades direccionales.
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Explicación detallada:Generación del haz de electrones:
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El proceso comienza con la generación de un haz de electrones en un cañón de electrones. Esto se consigue normalmente calentando un filamento de tungsteno para que emita electrones por emisión termoiónica. El filamento se calienta haciendo pasar una corriente de alto voltaje (hasta 10 kV) a través de él. También pueden utilizarse otros métodos, como la emisión de electrones de campo o el arco anódico.
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Enfoque y desviación del haz de electrones:
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El haz de electrones generado se enfoca y desvía mediante mecanismos adecuados. Este haz enfocado se dirige desde el cañón de electrones a través de la cámara de trabajo de vacío hasta el material que se va a evaporar, que está contenido en un crisol.Evaporación de materiales:
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Cuando el haz de electrones incide sobre el material contenido en el crisol, su energía cinética se transforma en calor. Este calor es suficiente para evaporar el material. La evaporación se produce en el vacío para garantizar que el haz de electrones pueda propagarse sin obstáculos y que el material evaporado no reaccione con el aire.
Deposición de películas finas:
El material evaporado viaja a través del vacío y se condensa en un sustrato situado sobre el crisol. El sustrato puede girarse y colocarse con precisión para controlar el grosor y la uniformidad de la película depositada. El proceso puede mejorarse utilizando un haz de iones para ayudar en la deposición, lo que mejora la adherencia y la densidad de la película.
