La deposición física de vapor (PVD) es un proceso utilizado para depositar películas finas o revestimientos sobre un sustrato.
Consiste en transformar materiales de su fase condensada a una fase de vapor.
A continuación se produce la condensación en el sustrato.
El proceso suele realizarse en condiciones de vacío a alta temperatura para garantizar la pureza y calidad del material depositado.
Explicación de los 4 pasos clave
1. Preparación del material de partida
El material que se va a depositar se convierte primero en un estado de vapor utilizando medios físicos como la pulverización catódica, la evaporación o el tratamiento térmico.
Esto suele implicar el uso de electricidad de alta potencia o láseres para gasificar un material precursor sólido.
2. Transporte
A continuación, el material vaporizado se transporta a través de una región de baja presión desde su fuente hasta el sustrato.
Este paso garantiza que el material no se contamine y que llegue al sustrato de forma eficiente.
3. 3. Deposición y condensación
El vapor se condensa en el sustrato y forma una fina película.
Esta película se adhiere al sustrato, creando un revestimiento que suele caracterizarse por su dureza, resistencia a la corrosión y tolerancia a altas temperaturas.
4. Consideraciones medioambientales
El PVD se considera un proceso respetuoso con el medio ambiente debido a su ausencia de subproductos peligrosos y a su eficiencia en el uso de materiales.
El entorno controlado de la cámara de deposición garantiza unos residuos mínimos y un alto aprovechamiento del material.
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