La velocidad de deposición física de vapor (PVD) no se indica explícitamente en las referencias facilitadas, pero puede deducirse de la descripción del proceso y del grosor típico de los revestimientos producidos. El PVD es un proceso que implica la deposición de películas finas con un grosor que suele oscilar entre 1 y 10µm (micrómetros). La velocidad de deposición dependerá de la técnica de PVD utilizada, el material depositado, el equipo y las condiciones de la cámara de deposición (como la temperatura, la presión y la presencia de gases reactivos).
Para determinar la velocidad de PVD, se suele tener en cuenta el tiempo que se tarda en alcanzar el espesor de película deseado. Por ejemplo, si un proceso de PVD deposita una película a una velocidad de 1 µm por hora y el grosor deseado es de 5 µm, el proceso tardaría aproximadamente 5 horas en completarse. Sin embargo, sin datos específicos sobre las tasas de deposición para una técnica y material de PVD determinados, no se puede proporcionar una tasa precisa.
En resumen, la velocidad de PVD es una variable que depende de varios factores y suele medirse en términos del espesor de la película depositada por unidad de tiempo. La velocidad real debería determinarse experimentalmente o ser facilitada por el fabricante del equipo de PVD para una aplicación específica.
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