La evaporación térmica en vacío es un proceso de deposición utilizado para la formación y el crecimiento de películas finas sobre materiales sólidos. Esta técnica se aplica ampliamente tanto en laboratorio como en entornos industriales debido a su sencillez y eficacia.
Visión general del proceso:
El proceso comienza sometiendo el material objetivo a temperaturas muy elevadas, lo que provoca su sublimación o ebullición y la formación de vapor. A continuación, este vapor se transporta a un sustrato a través de un entorno de vacío. Al llegar al sustrato, el vapor se condensa para formar una fina película sólida. Este ciclo de deposición puede repetirse para mejorar el crecimiento y la nucleación de la película fina.Métodos de recubrimiento al vacío por evaporación térmica:
- La evaporación térmica puede lograrse mediante dos métodos principales:
- Calentamiento eléctrico: El material se calienta eléctricamente utilizando alambres o en crisoles conductores hechos de materiales con puntos de fusión más altos. Este método es adecuado para materiales que requieren una presión de vapor considerable a altas temperaturas.
Evaporadores en forma de barco: Se utilizan específicamente para evaporar óxidos. La forma de barco facilita el proceso de calentamiento y vaporización.
Sistemas de vacío para evaporación térmica:
El sistema de vacío desempeña un papel crucial en la calidad de la película fina producida. La presión de base necesaria en el dispositivo de recubrimiento oscila entre 10^-7 y 10^-5 mbar. Los sistemas modernos suelen utilizar bombas turbomoleculares, que pueden evacuar la cámara hasta la presión base requerida en una hora. Estas bombas suelen estar respaldadas por bombas rotativas de paletas u otros tipos de bombas secas. También se utiliza un obturador encima del evaporador para controlar el proceso de deposición y garantizar la reproducibilidad de las capas.Aplicaciones y materiales:
