Las ventajas de la deposición por baño químico incluyen
1. Fiabilidad: La deposición por baño químico produce películas de forma fiable, garantizando resultados consistentes y predecibles.
2. 2. Proceso sencillo: El proceso de deposición por baño químico es relativamente sencillo y no requiere infraestructuras ni equipos complejos. Puede implementarse fácilmente en los procesos de fabricación.
3. 3. Baja temperatura: La deposición por baño químico puede llevarse a cabo a bajas temperaturas, normalmente inferiores a 100˚C. Esto es ventajoso ya que permite la deposición de materiales sobre sustratos sensibles a la temperatura sin causar daños.
4. Bajo coste: La deposición por baño químico es un método rentable en comparación con otras técnicas de deposición. Requiere recursos mínimos y puede ampliarse fácilmente para la producción en masa, lo que reduce los costes de fabricación.
En general, la deposición en baño químico ofrece un método fiable, sencillo, de baja temperatura y rentable para depositar películas sobre diversos sustratos. Es adecuado para una amplia gama de aplicaciones, como la electrónica, la optoelectrónica, las células solares y los revestimientos.
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