Conocimiento ¿Qué es el CVD en los semiconductores?
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Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 5 días

¿Qué es el CVD en los semiconductores?

CVD en semiconductores significa Deposición Química en Fase Vapor, un método utilizado para producir materiales sólidos de alta calidad y alto rendimiento, normalmente al vacío. Este proceso es crucial en la industria de los semiconductores para la producción de películas finas y diversos materiales esenciales para la microfabricación.

Resumen de CVD en semiconductores:

La CVD consiste en exponer un sustrato a precursores volátiles que reaccionan o se descomponen en la superficie del sustrato para formar un depósito de película fina. Esta técnica se utiliza ampliamente en la fabricación de semiconductores para depositar materiales de diversas formas, mejorar el rendimiento de los transistores y crear capas aislantes y conductoras en los circuitos electrónicos.

  1. Explicación detallada:Descripción general del proceso:

  2. En el CVD, se coloca un sustrato (normalmente una oblea) en una cámara de reacción en condiciones de vacío. Los precursores gaseosos se introducen en la cámara y reaccionan o se descomponen al entrar en contacto con el sustrato. Estas reacciones dan lugar a la deposición de una fina película del material deseado sobre el sustrato.

  3. Tipos de materiales depositados:

    • El CVD es versátil y puede depositar materiales en diversas formas, como monocristalino, policristalino, amorfo y epitaxial. Entre los materiales depositados más comunes se encuentran el silicio (dióxido, carburo, nitruro, oxinitruro), carbono (fibra, nanofibras, nanotubos, diamante y grafeno), fluorocarbonos, filamentos, tungsteno, nitruro de titanio y dieléctricos de alto kP.Aplicaciones en la fabricación de semiconductores:
    • El CVD desempeña un papel fundamental en varios aspectos de la fabricación de semiconductores:
    • Películas de patrón: Se utilizan para crear patrones específicos de materiales en la superficie de la oblea.
    • Materiales aislantes: Esenciales para crear capas aislantes en estructuras de transistores, como STI (Shallow Trench Isolation), PMD (Pre-Metal Dielectric) e IMD (Inter-Metal Dielectric).
  4. Capas conductoras: Deposita materiales que forman el circuito eléctrico, garantizando una conducción eléctrica eficiente.

  5. Ingeniería de deformación: Utiliza películas de tensión de compresión o tracción para mejorar el rendimiento del transistor aumentando la conductividad.

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