Las películas finas son esenciales en diversas aplicaciones, desde la mejora de las propiedades superficiales hasta la alteración de la conductividad eléctrica.
¿Cómo se depositan las películas finas? Explicación de 5 técnicas esenciales
1. Deposición física en fase vapor (PVD)
El depósito físico en fase vapor (PVD) implica la evaporación o pulverización catódica del material original.
A continuación, este material se condensa en el sustrato para formar una película fina.
La PVD incluye técnicas como la evaporación, la evaporación por haz de electrones y la pulverización catódica.
En la evaporación, el material se calienta hasta que se convierte en vapor y se deposita sobre el sustrato.
La evaporación por haz de electrones utiliza un haz de electrones para calentar el material.
La pulverización catódica consiste en bombardear un material con iones para expulsar átomos que se depositan en el sustrato.
2. Deposición química en fase vapor (CVD)
El depósito químico en fase vapor (CVD) utiliza reacciones químicas para depositar una fina capa sobre un sustrato.
El sustrato se expone a gases precursores que reaccionan y depositan la sustancia deseada.
Entre los métodos de CVD más comunes se encuentran el CVD a baja presión (LPCVD) y el CVD potenciado por plasma (PECVD).
Estas técnicas permiten depositar materiales complejos y controlar con precisión las propiedades de las películas.
3. Deposición de capas atómicas (ALD)
La deposición de capas atómicas (ALD) es un método muy preciso que permite la deposición de películas de una capa atómica cada vez.
El sustrato se expone alternativamente a determinados gases precursores en un proceso cíclico.
Este método es especialmente útil para crear películas uniformes y conformes, incluso sobre geometrías complejas.
4. Aplicaciones de las películas finas
Las películas finas tienen una amplia gama de aplicaciones.
Pueden mejorar la durabilidad y la resistencia al rayado de las superficies.
También pueden alterar la conductividad eléctrica o la transmisión de señales.
Por ejemplo, el revestimiento reflectante de un espejo es una película delgada, normalmente depositada mediante técnicas de pulverización catódica.
5. Resumen del proceso de deposición
El proceso de deposición suele constar de tres pasos.
En primer lugar, se emiten partículas desde una fuente utilizando calor, alta tensión, etc.
En segundo lugar, estas partículas se transportan al sustrato.
En tercer lugar, las partículas se condensan en la superficie del sustrato.
La elección del método de deposición depende de las propiedades deseadas de la película y de los requisitos específicos de la aplicación.
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