Las películas finas se depositan mediante diversas técnicas, como la deposición física de vapores (PVD), la deposición química de vapores (CVD) y la deposición atómica de capas (ALD). Estos métodos permiten controlar con precisión el grosor y la composición de las películas, que son cruciales para sus aplicaciones específicas.
Deposición física en fase vapor (PVD):
El PVD implica la evaporación o pulverización catódica del material fuente, que luego se condensa en el sustrato para formar una película fina. Este proceso incluye técnicas como la evaporación, la evaporación por haz de electrones y la pulverización catódica. En la evaporación, el material se calienta hasta que se convierte en vapor y se deposita sobre el sustrato. La evaporación por haz de electrones utiliza un haz de electrones para calentar el material, mientras que el sputtering consiste en bombardear un material objetivo con iones para expulsar átomos que luego se depositan sobre el sustrato.Deposición química en fase vapor (CVD):
El CVD utiliza reacciones químicas para depositar una fina capa sobre un sustrato. El sustrato se expone a gases precursores que reaccionan y depositan la sustancia deseada. Entre los métodos CVD más comunes se encuentran el CVD a baja presión (LPCVD) y el CVD potenciado por plasma (PECVD). Estas técnicas permiten depositar materiales complejos y controlar con precisión las propiedades de las películas.
Deposición de capas atómicas (ALD):
La deposición de capas atómicas (ALD) es un método muy preciso que permite la deposición de películas de una capa atómica cada vez. El sustrato se expone alternativamente a determinados gases precursores en un proceso cíclico. Este método es especialmente útil para crear películas uniformes y conformadas, incluso sobre geometrías complejas.Aplicaciones de las películas finas:
Las películas finas tienen una amplia gama de aplicaciones, desde la mejora de la durabilidad y la resistencia al rayado de las superficies hasta la alteración de la conductividad eléctrica o la transmisión de señales. Por ejemplo, el revestimiento reflectante de un espejo es una película delgada, normalmente depositada mediante técnicas de pulverización catódica.
