La deposición asistida por plasma es una sofisticada técnica de fabricación utilizada para depositar películas finas sobre diversos sustratos.
En concreto, incluye el depósito químico en fase vapor asistido por plasma (PACVD) y el depósito químico en fase vapor mejorado por plasma (PECVD).
Estos procesos utilizan plasma, un estado de la materia compuesto por partículas cargadas, para iniciar y mantener reacciones químicas que dan lugar a la deposición de material sobre un sustrato.
La energía para estas reacciones suele proceder de descargas eléctricas de alta frecuencia, como fuentes de radiofrecuencia, corriente continua o microondas.
Explicación de los 5 pasos clave
1. 1. Generación de plasma
El proceso comienza con la generación de plasma dentro de una cámara de vacío.
Esto se consigue normalmente aplicando una descarga eléctrica entre dos electrodos.
La energía de esta descarga ioniza el gas, creando un plasma formado por iones, electrones y radicales libres.
2. Activación de gases precursores
Los gases precursores, como el silano o el oxígeno, se introducen en el plasma.
Las partículas de alta energía del plasma colisionan con estos gases, rompiéndolos y creando especies reactivas.
3. 3. Deposición sobre el sustrato
Estas especies reactivas se desplazan hasta el sustrato, donde reaccionan y son absorbidas por la superficie.
El resultado es el crecimiento de una fina película.
Los subproductos químicos de estas reacciones se desorben y se eliminan de la cámara, completando el proceso de deposición.
4. Control de los parámetros de deposición
Las propiedades de la película depositada, como el grosor, la dureza y el índice de refracción, pueden controlarse ajustando parámetros como los caudales de gas y las temperaturas de funcionamiento.
Un mayor caudal de gas suele aumentar la velocidad de deposición.
5. Versatilidad y aplicaciones
La deposición asistida por plasma es altamente versátil, capaz de depositar una amplia gama de materiales, incluyendo metales, óxidos, nitruros y polímeros.
Puede utilizarse en objetos de diversos tamaños y formas, por lo que es adecuado para numerosas aplicaciones en industrias como la electrónica, la óptica y la fabricación.
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