La deposición de oro por vapor al vacío es un proceso utilizado para depositar una fina capa de oro sobre diversas superficies, como placas de circuitos, joyas metálicas o implantes médicos.
Este proceso es un tipo de deposición física de vapor (PVD) y se lleva a cabo en una cámara de vacío para garantizar que los átomos de oro se adhieran correctamente al sustrato sin interferencias de aire u otros gases.
Explicación de los 4 pasos clave
1. Creación del vacío
El primer paso consiste en crear vacío en una cámara para eliminar el aire y otros gases que podrían interferir en el proceso de deposición.
Esto garantiza que los átomos de oro puedan viajar directamente al sustrato sin contaminación ni problemas de adherencia.
2. Preparación del sustrato
El objeto que se va a recubrir, conocido como sustrato, se coloca en la cámara de vacío.
Dependiendo de la aplicación, el sustrato puede necesitar limpieza u otros preparativos para garantizar una adhesión óptima de la capa de oro.
3. Evaporación del material o pulverización catódica
En el caso del oro, el proceso suele consistir en la pulverización catódica.
Se coloca un material objetivo de oro en la cámara y se bombardea con iones de alta energía.
Este bombardeo hace que los átomos de oro sean expulsados o "pulverizados" en un vapor fino.
4. Deposición
Una vez que los átomos de oro se encuentran en estado de vapor, se depositan sobre el sustrato.
Esta deposición se produce a nivel atómico o molecular, lo que permite un control preciso del grosor y la uniformidad de la capa de oro.
La capa puede tener desde un átomo de grosor hasta varios milímetros, en función de los requisitos de la aplicación.
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