Horno de grafitización
Horno de grafización al vacío a ultra alta temperatura de grafito
Número de artículo : GF-09
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Introducción
El horno de grafización a ultra alta temperatura utiliza calentamiento por inducción de frecuencia media en un ambiente de vacío o gas inerte. La bobina de inducción genera un campo magnético alterno, induciendo corrientes parásitas en el crisol de grafito, que se calienta y irradia calor a la pieza de trabajo, llevándola a la temperatura deseada. Este horno se utiliza principalmente para la grafización y sinterización de materiales de carbono, materiales de fibra de carbono y otros materiales compuestos. Comprende un cuerpo de horno, tapa, sensor de calentamiento, capa de aislamiento, dispositivo de extracción de electrodos, sistema de distribución de circulación de agua, sistema de vacío, sistema de control de temperatura y más. El sistema eléctrico incluye una fuente de alimentación de frecuencia intermedia de transistor IGBT de 60KVA y un cable refrigerado por agua, equipado con varios instrumentos indicadores y funciones de alarma. La parte de control emplea una pantalla táctil de 15 pulgadas y un controlador programable PLC.
Detalles y Piezas
Aplicaciones
El horno de grafización a ultra alta temperatura encuentra aplicaciones en una amplia gama de industrias, que incluyen:
- Cocción de cerámica
- Crecimiento de carburos
- Carbonización
- Grafización
- Sinterización
- Recocido
- Soldadura fuerte
- Desgasificación
Características
El horno de grafización a ultra alta temperatura ofrece una gama de características avanzadas que brindan beneficios significativos a los usuarios:
- Capacidad de alta temperatura: El horno puede alcanzar temperaturas de hasta 2200 °C, lo que lo hace adecuado para una amplia gama de aplicaciones a alta temperatura.
- Alta eficiencia: El horno a base de grafito es extremadamente eficiente, lo que resulta en un menor consumo de energía y tiempos de calentamiento más rápidos.
- Calentamiento uniforme: El diseño del horno garantiza un calentamiento uniforme en toda la cámara, proporcionando resultados consistentes.
- Ambiente de vacío o gas inerte: El horno puede operarse en un ambiente de vacío o gas inerte, lo que permite un control preciso de la atmósfera circundante a la pieza de trabajo.
- Sistema de control inteligente: El horno está equipado con una pantalla táctil avanzada y un controlador programable para un control y monitoreo precisos de la temperatura.
- Características de seguridad: El horno incluye alarmas audibles y visuales para sobretensión, sobrecorriente y corte de agua, lo que garantiza una operación segura.
Principio
El horno de grafización a ultra alta temperatura opera según el principio de calentamiento por inducción de frecuencia media. La bobina de inducción genera un campo magnético alterno, induciendo corrientes parásitas en el crisol de grafito. Esto genera altas temperaturas que irradian a la pieza de trabajo, llevándola a la temperatura deseada. Este horno se emplea para la grafización y sinterización de materiales de carbono, materiales de fibra de carbono y materiales compuestos.
Ventajas
- Alta temperatura: El horno de grafización a ultra alta temperatura puede alcanzar una temperatura de 2500 °C, lo que es adecuado para una variedad de aplicaciones de tratamiento a alta temperatura y tratamiento de grafización.
- Alta eficiencia: El horno de grafización a ultra alta temperatura utiliza el principio de calentamiento por inducción de frecuencia media, que tiene las ventajas de alta eficiencia y calentamiento uniforme.
- Calentamiento uniforme: El horno de grafización a ultra alta temperatura utiliza un crisol de grafito para generar alta temperatura y la irradia a la pieza de trabajo, lo que puede lograr un calentamiento uniforme de la pieza de trabajo.
- Amplia aplicación: El horno de grafización a ultra alta temperatura es adecuado para la grafización y sinterización de materiales de carbono, materiales de fibra de carbono y otros materiales compuestos.
- Fácil de operar: El horno de grafización a ultra alta temperatura se controla mediante una pantalla táctil de 15 pulgadas y un controlador programable PLC, que es fácil de operar.
- Seguro y fiable: El horno de grafización a ultra alta temperatura tiene funciones de alarma audibles y visuales como sobretensión, sobrecorriente y corte de agua, lo que es seguro y fiable.
Especificación técnica
| Capacidad de la fuente de alimentación | 60KVA |
| Fuente de alimentación | 4000～8000Hz (seguimiento automático) |
| Temperatura | 3000℃ |
| Precisión del control de temperatura | ±2℃ |
| Método de medición de temperatura | 1100℃～3000℃ |
| Tamaño del área de trabajo efectiva | Φ200×200 mm (diámetro×altura) |
| Grado de vacío final en frío | 133Pa |
| Aumento de presión | 3.0 Pa/h |
| Atmósfera protectora | Argón Nitrógeno |
| Presión de inflado | ≤ 0.03MPa |
| Método de entrada y salida de material | Carga y descarga superior |
| Condiciones de calentamiento | Sinterización en atmósfera (gas inerte) |
FAQ
¿Qué Es Un Horno De Grafitización?
What Is A Graphite Vacuum Furnace Used For?
¿Qué Es El Horno CVD?
La deposición química de vapor (CVD) es una tecnología que utiliza diversas fuentes de energía, como calentamiento, excitación de plasma o radiación de luz para hacer reaccionar químicamente sustancias químicas gaseosas o de vapor en la fase gaseosa o la interfaz gas-sólido para formar depósitos sólidos en el reactor por medio de reacción química. En pocas palabras, dos o más materias primas gaseosas se introducen en una cámara de reacción y luego reaccionan entre sí para formar un nuevo material y depositarlo en la superficie del sustrato.
El horno CVD es un sistema de horno combinado con unidad de horno tubular de alta temperatura, unidad de control de gases y unidad de vacío, es ampliamente utilizado para experimentar y producir preparación de materiales compuestos, proceso de microelectrónica, optoelectrónica de semiconductores, utilización de energía solar, comunicación de fibra óptica, superconductor tecnología, campo de recubrimiento protector.
¿Cuál Es El Principio De Funcionamiento De Un Horno De Grafitización De Temperatura Ultraalta?
¿Cuáles Son Los Componentes Principales De Un Horno De Grafitización De Temperatura Ultraalta?
¿Cómo Mantener Un Horno De Grafitización A Temperatura Ultraalta?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos De Grafitización?
What Are The Main Types Of Graphite Vacuum Furnaces?
¿Cómo Funciona El Horno CVD?
El sistema de horno CVD consta de una unidad de horno tubular de alta temperatura, una unidad de control preciso de la fuente de gas reaccionante, una estación de bomba de vacío y las piezas de montaje correspondientes.
La bomba de vacío es para eliminar el aire del tubo de reacción y asegurarse de que no haya gases no deseados dentro del tubo de reacción, después de eso, el horno tubular calentará el tubo de reacción a una temperatura objetivo, luego la unidad de control precisa de la fuente de gas de reacción puede introducir diferentes gases con una relación establecida en el tubo del horno para la reacción química, la deposición de vapor químico se formará en el horno CVD.
¿Cuáles Son Los Diferentes Tipos De Hornos De Grafitización?
How Does A Graphite Vacuum Furnace Work?
¿Qué Gas Se Utiliza En El Proceso De CVD?
Hay enormes fuentes de gas que se pueden usar en el proceso de CVD, las reacciones químicas comunes de CVD incluyen pirólisis, fotólisis, reducción, oxidación, redox, por lo que los gases involucrados en estas reacciones químicas se pueden usar en el proceso de CVD.
Tomamos el crecimiento de CVD Graphene como ejemplo, los gases utilizados en el proceso de CVD serán CH4, H2, O2 y N2.
¿Cómo Funciona Un Horno De Grafitización?
What Are The Advantages Of Using A Graphite Vacuum Furnace?
¿Cuál Es La Ventaja Del Sistema CVD?
- Se puede producir una amplia gama de películas, películas metálicas, películas no metálicas y películas de aleación multicomponente, según se requiera. Al mismo tiempo, puede preparar cristales de alta calidad que son difíciles de obtener por otros métodos, como GaN, BP, etc.
- La velocidad de formación de la película es rápida, normalmente varias micras por minuto o incluso cientos de micras por minuto. Es posible depositar simultáneamente grandes cantidades de recubrimientos con una composición uniforme, lo que es incomparable con otros métodos de preparación de películas, como la epitaxia en fase líquida (LPE) y la epitaxia de haz molecular (MBE).
- Las condiciones de trabajo se llevan a cabo en condiciones de presión normal o bajo vacío, por lo que el recubrimiento tiene una buena difracción y las piezas de trabajo con formas complejas se pueden recubrir uniformemente, lo cual es muy superior al PVD.
- Debido a la difusión mutua del gas de reacción, el producto de reacción y el sustrato, se puede obtener un recubrimiento con buena fuerza de adhesión, lo cual es crucial para preparar películas con superficie reforzada, como películas resistentes al desgaste y anticorrosión.
- Algunas películas crecen a una temperatura mucho más baja que el punto de fusión del material de la película. En condiciones de crecimiento a baja temperatura, el gas de reacción y la pared del reactor y las impurezas contenidas en ellos casi no reaccionan, por lo que se puede obtener una película con alta pureza y buena cristalinidad.
- La deposición de vapor químico puede obtener una superficie de deposición suave. Esto se debe a que, en comparación con LPE, la deposición química de vapor (CVD) se lleva a cabo en alta saturación, con alta tasa de nucleación, alta densidad de nucleación y distribución uniforme en todo el plano, lo que da como resultado una superficie lisa macroscópica. Al mismo tiempo, en la deposición química de vapor, el camino libre promedio de las moléculas (átomos) es mucho mayor que el LPE, por lo que la distribución espacial de las moléculas es más uniforme, lo que conduce a la formación de una superficie de deposición uniforme.
- Bajo daño por radiación, que es una condición necesaria para la fabricación de semiconductores de óxido metálico (MOS) y otros dispositivos
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno De Grafitización?
What Temperature Range Can A Graphite Vacuum Furnace Achieve?
¿Qué Significa PECVD?
PECVD es una tecnología que utiliza plasma para activar el gas de reacción, promover la reacción química en la superficie del sustrato o en el espacio cercano a la superficie y generar una película sólida. El principio básico de la tecnología de deposición de vapor químico de plasma es que, bajo la acción de un campo eléctrico de RF o CC, el gas de origen se ioniza para formar un plasma, el plasma de baja temperatura se utiliza como fuente de energía, se obtiene una cantidad adecuada de gas de reacción. introducido, y la descarga de plasma se utiliza para activar el gas de reacción y realizar la deposición de vapor químico.
Según el método de generación de plasma, se puede dividir en plasma de RF, plasma de CC y plasma de microondas CVD, etc...
What Industries Benefit From Graphite Vacuum Furnaces?
¿Cuál Es La Diferencia Entre CVD Y PECVD?
La diferencia entre PECVD y la tecnología CVD tradicional es que el plasma contiene una gran cantidad de electrones de alta energía, que pueden proporcionar la energía de activación requerida en el proceso de deposición química de vapor, cambiando así el modo de suministro de energía del sistema de reacción. Dado que la temperatura de los electrones en el plasma es tan alta como 10000K, la colisión entre los electrones y las moléculas de gas puede promover la ruptura del enlace químico y la recombinación de las moléculas de gas de reacción para generar grupos químicos más activos, mientras que todo el sistema de reacción mantiene una temperatura más baja.
Entonces, en comparación con el proceso de CVD, PECVD puede llevar a cabo el mismo proceso de deposición de vapor químico con una temperatura más baja.
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The furnace is very efficient and has uniform heating, which greatly improves our work efficiency.
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The furnace is easy to operate and can be controlled by a touch screen, which is very convenient.
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The furnace is very safe and reliable, with audible and visual alarm functions, which gives me a sense of security.
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The furnace has a wide range of applications and can be used for graphitization and sintering of various materials.
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The furnace is very valuable for money, and its price is very reasonable.
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