La deposición de un vapor es el proceso por el que se forma una película sólida sobre una superficie a partir de materiales vaporizados.
Este proceso puede realizarse por medios químicos o físicos.
Es crucial en diversas aplicaciones industriales, especialmente en la formación de películas finas para electrónica, óptica y dispositivos médicos.
¿Qué es la deposición de un vapor? Explicación de 5 puntos clave
1. Deposición química de vapor (CVD)
En el CVD, la deposición de una película sólida se produce a través de una reacción química en la fase de vapor.
El proceso suele constar de tres pasos principales:
1.1 Evaporación de un compuesto volátil
Primero se vaporiza la sustancia que se va a depositar.
Esto se consigue a menudo calentando un material precursor a alta temperatura, lo que provoca su evaporación a la fase gaseosa.
1.2 Descomposición térmica o reacción química
El vapor se descompone térmicamente en átomos y moléculas o reacciona con otros vapores o gases en la superficie del sustrato.
Este paso es crucial, ya que inicia la transformación química necesaria para la formación de la película.
1.3 Deposición de productos de reacción no volátiles
Los productos de la reacción química, que ahora se encuentran en estado sólido, se depositan sobre el sustrato, formando una fina película.
En esta deposición influyen factores como la temperatura y la presión, que suelen ser elevadas en los procesos de CVD.
2. Deposición física en fase vapor (PVD)
El PVD consiste en la transferencia de material de un estado sólido a un estado de vapor y de nuevo a un estado sólido sobre un sustrato.
El proceso incluye:
2.1 Vaporización del material sólidoEl material que se va a depositar se calienta hasta que se vaporiza.Esto puede lograrse mediante diversos métodos, como la pulverización catódica, la evaporación o el calentamiento por haz de electrones.
