La deposición de un vapor se refiere al proceso en el que se forma una película sólida sobre una superficie a partir de materiales vaporizados por medios químicos o físicos. Este proceso es crucial en diversas aplicaciones industriales, sobre todo en la formación de películas finas para electrónica, óptica y dispositivos médicos.
Deposición química en fase vapor (CVD):
- En el CVD, la deposición de una película sólida se produce a través de una reacción química en la fase de vapor. El proceso suele constar de tres pasos principales:Evaporación de un compuesto volátil:
- Primero se vaporiza la sustancia que se va a depositar. Esto se consigue a menudo calentando un material precursor a una temperatura elevada, lo que provoca su evaporación a la fase gaseosa.Descomposición térmica o reacción química:
- El vapor se descompone térmicamente en átomos y moléculas o reacciona con otros vapores o gases en la superficie del sustrato. Este paso es crucial, ya que inicia la transformación química necesaria para la formación de la película.Deposición de productos de reacción no volátiles:
Los productos de la reacción química, que ahora se encuentran en estado sólido, se depositan sobre el sustrato, formando una fina película. En esta deposición influyen factores como la temperatura y la presión, que suelen ser elevadas en los procesos CVD.Deposición física en fase vapor (PVD):
- El PVD consiste en la transferencia de material de un estado sólido a un estado de vapor y de nuevo a un estado sólido sobre un sustrato. El proceso incluye:
- Vaporización del material sólido: El material que se va a depositar se calienta hasta que se vaporiza. Esto puede lograrse mediante diversos métodos, como la pulverización catódica, la evaporación o el calentamiento por haz de electrones.
Transporte y deposición:
A continuación, el material vaporizado se transporta a través de un vacío o un entorno de baja presión y se deposita sobre el sustrato. Los átomos o moléculas se condensan en el sustrato, formando una fina película. El grosor y las propiedades de la película pueden controlarse ajustando la duración de la deposición y la energía de las partículas vaporizadas.
