La deposición química en fase vapor (CVD) es un proceso utilizado para crear revestimientos sólidos de alta calidad y alto rendimiento sobre sustratos mediante el uso de vapores químicamente reactivos.
El proceso implica la reacción de uno o más gases, conocidos como gases precursores, en una cámara de reacción para depositar un material sólido sobre la superficie de un sustrato.
Los gases precursores reaccionan entre sí o con la superficie del sustrato para formar una película sólida, cuya composición puede variar en función de los requisitos del proyecto.
Explicación de las 5 etapas clave
1. 1. Difusión del gas de reacción en la superficie del sustrato
Los gases precursores se introducen en la cámara de reacción y se difunden sobre la superficie del sustrato.
2. 2. Adsorción del gas de reacción en la superficie del sustrato
Los gases precursores se adsorben en la superficie del sustrato, formando una capa de especies reactivas.
3. 3. Reacción química en la superficie del sustrato para formar un depósito sólido
Las especies reactivas en la superficie del sustrato sufren una reacción química, formando un depósito sólido.
4. Liberación de los subproductos resultantes de la fase de vapor de la superficie del sustrato
Los subproductos de esta reacción se liberan en forma de vapor y se eliminan de la cámara.
5. 5. Formación de una película sólida
La película sólida se forma sobre la superficie del sustrato, cuya composición puede variar en función de los requisitos del proyecto.
El CVD tiene varias ventajas, como la capacidad de depositar una amplia variedad de materiales, como películas metálicas, películas no metálicas, películas de aleaciones multicomponente y capas de cerámica o compuestos.
El proceso puede llevarse a cabo a presión atmosférica o bajo vacío, lo que permite obtener buenas propiedades envolventes y un revestimiento uniforme de superficies de formas complejas o agujeros profundos o finos en la pieza.
Además, los revestimientos CVD tienen una gran pureza, buena densidad, baja tensión residual y buena cristalización.
Existen varios tipos de procesos CVD, como el CVD de filamento caliente, la deposición de capas atómicas (ALD) y la deposición de vapor químico metalorgánico (MOCVD).
Estas técnicas ofrecen una amplia gama de capacidades de funcionalización de superficies que superan las de otras tecnologías de recubrimiento.
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