Conocimiento ¿Qué es el proceso de infiltración química de vapor? (7 pasos explicados)
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 3 meses

¿Qué es el proceso de infiltración química de vapor? (7 pasos explicados)

La infiltración química de vapor (CVI) es un proceso de ingeniería cerámica.

Consiste en infiltrar material de matriz en preformas fibrosas para crear compuestos reforzados con fibras.

Este proceso utiliza gases reactivos a temperaturas elevadas para lograr la infiltración deseada.

Explicación de los 7 pasos

¿Qué es el proceso de infiltración química de vapor? (7 pasos explicados)

1. 1. Preparación de la preforma

Primero se prepara una preforma fibrosa.

Esta sirve como material base para el composite.

La preforma suele estar hecha de fibras cerámicas dispuestas en un patrón u orientación específicos.

2. Generación de gases reactivos

Se generan gases reactivos.

Esto sucede a menudo a través de la descomposición térmica o reacción de gases precursores.

Estos gases reactivos reaccionarán con la superficie de la preforma para formar el material matriz deseado.

3. Transporte de gases

Los gases reactivos generados se transportan a la superficie de la preforma.

Esto puede lograrse mediante el uso de gases portadores o controlando la presión y el flujo de los gases.

4. Adsorción y reacción

Los gases reactivos se adsorben en la superficie de la preforma.

Se someten a reacciones heterogéneas catalizadas por la superficie.

Esto conduce a la deposición del material de matriz deseado sobre las fibras de la preforma.

5. Difusión superficial

El material de matriz depositado experimenta una difusión superficial.

Se extiende y se infiltra en los espacios entre las fibras de la preforma.

Este proceso de difusión continúa hasta que se alcanza el nivel de infiltración deseado.

6. Nucleación y crecimiento

A medida que el material de la matriz se infiltra en la preforma, experimenta nucleación y crecimiento.

Esto forma un revestimiento o matriz continua y uniforme dentro de la preforma.

Este recubrimiento fortalece y refuerza las fibras, dando como resultado un compuesto reforzado con fibras.

7. 7. Desorción y eliminación del producto

A lo largo del proceso, los productos de reacción gaseosos se desorben continuamente de la superficie de la preforma.

Estos productos de reacción son transportados lejos de la superficie.

De este modo se garantiza la correcta conversión química y la eliminación de cualquier subproducto.

Siga explorando, consulte a nuestros expertos

¿Necesita equipos de laboratorio para procesos de infiltración química de vapor (CVI)?

¡No busque más allá de KINTEK!

Nuestros equipos fiables y de alta calidad le garantizarán procedimientos de IVC eficientes y precisos.

Con nuestra avanzada tecnología, podrá crear composites reforzados con fibras, películas finas puras y nanopartículas con facilidad.

Confíe en KINTEK para todas sus necesidades de equipos de IVC.

Póngase en contacto con nosotros hoy mismo para obtener más información.

Productos relacionados

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado

La matriz de embutición de revestimiento compuesto de nanodiamante utiliza carburo cementado (WC-Co) como sustrato, y emplea el método de fase de vapor químico (método CVD para abreviar) para recubrir el diamante convencional y el revestimiento compuesto de nanodiamante en la superficie del orificio interior del molde.

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.

Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio

Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio

Conozca la máquina MPCVD de resonador cilíndrico, el método de deposición química en fase vapor por plasma de microondas utilizado para el crecimiento de gemas y películas de diamante en las industrias de joyería y semiconductores. Descubra sus ventajas económicas frente a los métodos HPHT tradicionales.

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD: conductividad térmica, calidad del cristal y adherencia superiores para herramientas de corte, fricción y aplicaciones acústicas

Horno de deposición química mejorada con plasma rotativo inclinado (PECVD)

Horno de deposición química mejorada con plasma rotativo inclinado (PECVD)

Presentamos nuestro horno PECVD giratorio inclinado para la deposición precisa de películas delgadas. Disfrute de una fuente de coincidencia automática, control de temperatura programable PID y control de caudalímetro másico MFC de alta precisión. Características de seguridad integradas para su tranquilidad.

Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

Obtenga películas de diamante de alta calidad con nuestra máquina Bell-jar Resonator MPCVD diseñada para laboratorio y crecimiento de diamantes. Descubra cómo funciona la deposición de vapor químico de plasma de microondas para el cultivo de diamantes utilizando gas de carbono y plasma.

Horno CVD versátil hecho por el cliente

Horno CVD versátil hecho por el cliente

Obtenga su horno CVD exclusivo con el horno versátil hecho por el cliente KT-CTF16. Funciones personalizables de deslizamiento, rotación e inclinación para reacciones precisas. ¡Ordenar ahora!

Horno tubular CVD multizonas de calentamiento Máquina CVD

Horno tubular CVD multizonas de calentamiento Máquina CVD

KT-CTF14 Horno CVD Multizonas de Calentamiento - Control preciso de temperatura y flujo de gas para aplicaciones avanzadas. Temperatura máxima de hasta 1200℃, caudalímetro másico MFC de 4 canales y controlador con pantalla táctil TFT de 7".

Diamante dopado con boro CVD

Diamante dopado con boro CVD

Diamante dopado con boro CVD: un material versátil que permite una conductividad eléctrica, transparencia óptica y propiedades térmicas excepcionales personalizadas para aplicaciones en electrónica, óptica, detección y tecnologías cuánticas.

Horno de fusión por inducción en vacío Horno de fusión de arco

Horno de fusión por inducción en vacío Horno de fusión de arco

Obtenga una composición precisa de las aleaciones con nuestro horno de fusión por inducción en vacío. Ideal para las industrias aeroespacial, de energía nuclear y electrónica. Haga su pedido ahora para fundir y colar metales y aleaciones de forma eficaz.

Horno de prensado en caliente de tubos al vacío

Horno de prensado en caliente de tubos al vacío

Reduzca la presión de conformado y acorte el tiempo de sinterización con el Horno de Prensado en Caliente con Tubo de Vacío para materiales de alta densidad y grano fino. Ideal para metales refractarios.

Crisol de evaporación de grafito

Crisol de evaporación de grafito

Recipientes para aplicaciones de alta temperatura, donde los materiales se mantienen a temperaturas extremadamente altas para que se evaporen, lo que permite depositar películas delgadas sobre los sustratos.

prensa de pellets kbr 2T

prensa de pellets kbr 2T

Presentamos la prensa KINTEK KBR, una prensa hidráulica de laboratorio portátil diseñada para usuarios principiantes.

Horno de porcelana al vacío

Horno de porcelana al vacío

Obtenga resultados precisos y confiables con el horno de porcelana al vacío de KinTek. Adecuado para todos los polvos de porcelana, cuenta con función de horno de cerámica hiperbólica, aviso de voz y calibración automática de temperatura.

Tamiz vibratorio bidimensional

Tamiz vibratorio bidimensional

El KT-VT150 es un instrumento de sobremesa para el procesamiento de muestras, tanto para el tamizado como para la molienda. La molienda y el tamizado pueden utilizarse tanto en seco como en húmedo. La amplitud de vibración es de 5 mm y la frecuencia de vibración es de 3000-3600 veces/min.

Trituradora de tejidos híbrida

Trituradora de tejidos híbrida

KT-MT20 es un versátil dispositivo de laboratorio utilizado para moler o mezclar rápidamente pequeñas muestras, ya sean secas, húmedas o congeladas. Se suministra con dos jarras de molino de bolas de 50 ml y varios adaptadores de rotura de pared celular para aplicaciones biológicas como la extracción de ADN/ARN y proteínas.

Trituradora de tejidos de alto rendimiento

Trituradora de tejidos de alto rendimiento

El KT-MT es un triturador de tejidos de alta calidad, pequeño y versátil que se utiliza para triturar, moler, mezclar y romper la pared celular en diversos campos, como la alimentación, la medicina y la protección medioambiental. Está equipado con 24 o 48 adaptadores de 2 ml y tanques de trituración de bolas y se emplea ampliamente para la extracción de ADN, ARN y proteínas.

Molino de bolas vibratorio híbrido de alta energía

Molino de bolas vibratorio híbrido de alta energía

El KT-BM400 se utiliza para moler o mezclar rápidamente pequeñas cantidades de muestras secas, húmedas y congeladas en el laboratorio. Puede configurarse con dos jarras de molino de bolas de 50 ml.

Reactor de vidrio simple de 1-5L

Reactor de vidrio simple de 1-5L

Encuentre su sistema de reactor de vidrio ideal para reacciones sintéticas, destilación y filtración. Elija entre volúmenes de 1 a 200 l, agitación ajustable y control de temperatura, y opciones personalizadas. ¡KinTek lo tiene cubierto!

Micro trituradora de tejidos

Micro trituradora de tejidos

KT-MT10 es un molino de bolas en miniatura con un diseño de estructura compacta. La anchura y la profundidad son sólo 15X21 cm, y el peso total es de sólo 8 kg. Se puede utilizar con un tubo de centrífuga de 0,2 ml como mínimo o con una jarra de molino de bolas de 15 ml como máximo.

Prensa isostática en frío de laboratorio eléctrico (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Prensa isostática en frío de laboratorio eléctrico (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Produzca piezas densas y uniformes con propiedades mecánicas mejoradas con nuestra prensa isostática en frío Electric Lab. Ampliamente utilizado en investigación de materiales, farmacia e industrias electrónicas. Eficiente, compacto y compatible con vacío.


Deja tu mensaje